プラズマ処理装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：佐藤香
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998222562
Publication number (International publication number)：2000058296
Application date： Aug. 06, 1998
Publication date： Feb. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】均一性の良いプラズマ処理装置を実現する。【解決手段】プラズマ空間5の形成された真空チャンバ2+3と、この真空チャンバに付設された複数の誘導結合素子21〜24と、これら複数の誘導結合素子に高周波を印加する電力供給手段12とを具備したプラズマ処理装置において、その高周波のラインに介挿して又は付加して設けられ複数の誘導結合素子21〜24に分配される電力を調整する電力調整手段40〜48と、複数の誘導結合素子21〜24の間に設けられ又は形成された相互干渉軽減手段32〜34とを備える。複数の誘導結合素子の相互干渉を軽減して独立性を高めたことにより、電磁界分布に対する局所ごとの制御性が向上して、プラズマ空間5のプラズマ密度分布が一様になる。

Claim (excerpt)：

プラズマ空間の形成された真空チャンバと、この真空チャンバに付設された複数の誘導結合素子と、これら複数の誘導結合素子に高周波を印加する電力供給手段とを具備したプラズマ処理装置において、前記高周波のラインに対して設けられ前記複数の誘導結合素子に分配される電力を調整する電力調整手段と、前記複数の誘導結合素子の間に設けられ又は形成された相互干渉軽減手段とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H01L 21/31

FI (6)：

H05H 1/46 L , H05H 1/46 M , C23C 16/50 , H01L 21/205 , H01L 21/31 C , H01L 21/302 B

F-Term (33)：

4K030AA06 , 4K030FA04 , 4K030HA06 , 4K030HA16 , 4K030KA30 , 4K030KA39 , 4K030KA41 , 4K030KA45 , 4K030LA15 , 4K030LA18 , 5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB07 , 5F004BB13 , 5F004BB18 , 5F004BD01 , 5F004BD03 , 5F004BD04 , 5F004DA01 , 5F004DA02 , 5F004DA03 , 5F004DA23 , 5F004DB01 , 5F004DB03 , 5F045AA08 , 5F045AF01 , 5F045AF07 , 5F045BB01 , 5F045DP04 , 5F045EH04 , 5F045EH11 , 5F045EH16 , 5F045GB08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

誘導結合プラズマ・リアクタとその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-049888 Applicant：モトローラ・インコーポレイテッド
プラズマ処理方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-212369 Applicant：株式会社神戸製鋼所
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-225695 Applicant：株式会社日立製作所

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