感光性化合物およびこれを含むフォトレジスト組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：森田憲一 , 山口健次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008150520
Publication number (International publication number)：2008303221
Application date： Jun. 09, 2008
Publication date： Dec. 18, 2008
Summary：

【課題】超微細フォトレジストパターンを形成することができる感光性化合物およびこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】前記感光性化合物は下記反応工程式3に示すように、下記化学式の構造を有する。前記化学式において、xは1から5の定数であり、yは2から6の定数であり、Rは炭素数2から20の炭化水素基である。前記フォトレジスト組成物は、前記化学式の構造を有する感光性化合物1から85重量%と、前記化学式で示される化合物の水酸基(-OH)と反応して前記化学式で示される感光性化合物と結合する化合物1から55重量%と、光酸発生剤1から15重量%、および有機溶媒12から97重量%を含む。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記化学式1の構造を有する感光性化合物。

IPC (5)：

C07C 65/24 , C07C 69/42 , G03F 7/038 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (5)：

C07C65/24 , C07C69/42 , G03F7/038 601 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R

F-Term (15)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AD01 , 2H025BD01 , 2H025BE07 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AB76 , 4H006BJ50 , 4H006BP30 , 4H006BS10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

パターン形成材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-237462 Applicant：松下電器産業株式会社
セルロースアシレートフィルム、該フイルムを用いた光学フィルム及び画像表示装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-136047 Applicant：富士写真フイルム株式会社
セルロースアシレートフィルム、該フイルムを用いた光学フィルム、及び画像表示装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-183909 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

Bioorganic and Medicinal Chemistry, 1998, 6(8), 1347-1378
Polymer Journal (Tokyo), 2000, 32(3), 234-242
Bioorganic and Medicinal Chemistry, 1998, 6(8), 1347-1378

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