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J-GLOBAL ID：200903054687618376

ネガ型ホトレジスト組成物

Inventor：
ウェンジー・リー

About ウェンジー・リー

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プシュカラ・アール・ヴラナシー

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アリッサンドレア・エイチ・ハマド

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Applicant, Patent owner：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

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Agent (3)： 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005028828
Publication number (International publication number)：2005222059
Application date： Feb. 04, 2005
Publication date： Aug. 18, 2005
Summary：
【課題】 ホトリソグラフィ用途において空間的解像度の制限を回避するために、露光されたホトレジストが現像液に溶解するときに膨潤および/またはミクロブリッジングされないネガ型ホトレジストを提供する。【解決手段】 組成物は、放射感受性酸発生剤、添加剤、およびヒドロキシ基を含む少なくとも第一モノマーに由来するレジストポリマーを含む。第一モノマーは、酸性またはほぼ中性pHでありうる。レジストポリマーは、さらに、水性塩基可溶性部位を有する第二モノマーに由来しうる。添加剤は、N-アルコキシメチル基で代表される部位を持ち、1以上の脂環式構造を含みうる。酸発生剤は、放射線で露光されて酸を発生するように適合される。レジストポリマーは、酸の存在下に添加剤と化学的に反応して、水性アルカリ性現像液に不溶性である非架橋性生成物を発生するように適合される。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(a)放射感受性酸発生剤、 (b)構造:
IPC (4)：
G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027
FI (4)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (13)：
2H025AA02 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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