ポジ型レジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995270294
Publication number (International publication number)：1997114093
Application date： Oct. 18, 1995
Publication date： May. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】高い感度、高い解像力、良好なプロファイル、良好なフォーカス許容性、少ない現像残渣など、レジスト諸性能のバランスがとれたポジ型レジスト組成物を提供する【解決手段】一般式(I)(式中、Q1 〜Q10は各々、水素、炭素数1〜6のアルキルもしくはフェニルを表すか、またはQ1 とQ2 、Q3 とQ4 、Q5 とQ6 、Q7 とQ8 もしくはQ9とQ10が一緒になって、それぞれが結合する炭素原子とともに炭素数6以下のシクロアルカン環を形成し、R1 〜R16は各々、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキルまたはフェニルを表し、mおよびnは各々0または1を表す)で示されるフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含む感光剤およびアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

一般式(I)(式中、Q1 、Q2 、Q3 、Q4 、Q5 、Q6 、Q7 、Q8 、Q9 およびQ10は互いに独立に、水素、炭素数1〜6のアルキルもしくはフェニルを表すか、または、Q1 とQ2 、Q3 とQ4 、Q5 とQ6 、Q7 とQ8 もしくはQ9 とQ10が一緒になって、各々が結合する炭素原子とともに炭素数6以下のシクロアルカン環を形成し、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキルまたはフェニルを表し、mおよびnは互いに独立に0または1を表す)で示されるフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含む感光剤およびアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 , G03F 7/023 511 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/022 , G03F 7/023 511 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-338926 Applicant：日本ゼオン株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-310613 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-346400 Applicant：住友化学工業株式会社

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