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J-GLOBAL ID：200903079919889242

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 青合 利明 ,  河辺 保雅 ,  坂口 新治
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993310613
Publication number (International publication number)：1995159989
Application date： Dec. 10, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】 膜厚の変動によらず高い解像力が得られ、現像残査の発生が少なく、現像ラチチュードにも優れた微細加工用フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 下記一般式(I)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルとアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。式(I)中、R1〜R17は水素、ハロゲン、アルキル、アリール、アルコキシ、アシロキシ、アシル、アルケニル、アラルキル又は水酸基;A,Bは、例えば-CH2-,-S-等の連結基を表す。【化1】

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルとアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(I)中、R1〜R17は同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシロキシ基、アシル基、アルケニル基、アラルキル基または水酸基を表す。A、Bは同一でも異なっても良く、下記化2に示される連結基を表す。【化2】化2中、R18、R19は同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはアルコキシ基を表す。但し、R18とR19が結合して環を形成してもよい。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-228057
  
• 感光性化合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-055880   Applicant：ソニー株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-346400   Applicant：住友化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-223634   Applicant：住友化学工業株式会社