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J-GLOBAL ID：200903004792660003

露光用マスク、露光装置、露光方法及び液晶表示装置の製造方法

Inventor：
伊丹 直滋

About 伊丹 直滋


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 岡本 啓三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000342296
Publication number (International publication number)：2002148783
Application date： Nov. 09, 2000
Publication date： May. 22, 2002
Summary：
【要約】【課題】液晶表示装置、半導体装置等の製造に使用される露光装置に関し、混合波長、単一波長の選択を容易にして露光装置の使用頻度を高くするとともに、設備の増加を抑制すること。【解決手段】混合波長の光を発する光源2と、光源2から出た光の第1の波長を吸収するフィルタ6と、フィルタ6を透過した光を透過しかつ第2の波長の光を吸収する材料からなるフィルム又は基板を有する露光用マスク7Bと、露光用マスク7Bを透過した光を透過する投影レンズ8と、投影レンズ8の光進行方向に配置される基板ステージ1とを含む。
Claim (excerpt)：
混合波長の露光光のうち所定の波長の光を吸収する材料からなるフィルム又は基板を有することを特徴とする露光用マスク。
IPC (3)：
G03F 1/14 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 1/14 B ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 515 F
F-Term (15)：
2H095BA07 ,  2H095BC24 ,  2H095BC27 ,  2H097BB02 ,  2H097CA12 ,  2H097EA03 ,  2H097JA02 ,  2H097LA12 ,  5F046BA03 ,  5F046CA02 ,  5F046CA07 ,  5F046CB08 ,  5F046CB17 ,  5F046CB23 ,  5F046DA01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-332932   Applicant：株式会社ニコン
  • 露光装置および露光方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-077701   Applicant：株式会社ニコン
  • 特開平4-096214
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Cited by examiner (4)
  • 露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-332932   Applicant：株式会社ニコン
  • 露光装置および露光方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-077701   Applicant：株式会社ニコン
  • 特開平4-096214
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