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J-GLOBAL ID：200903004795187570
フォトマスクの欠陥修正方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
坂上 正明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001375785
Publication number (International publication number)：2003177513
Application date： Dec. 10, 2001
Publication date： Jun. 27, 2003
Summary：
【要約】【課題】 走査プローブ顕微鏡を用いてフォトマスク上の微細な黒欠陥もしくは白欠陥の高スループットかつ高精度の欠陥修正を可能にする。【解決手段】 2本以上の探針を独立に駆動できる走査プローブ顕微鏡を用いて、1本以上の加工用の探針1をガラス基板3や正常パターン4と区別された黒欠陥または白欠陥領域6のみ選択的に走査して修正している間、並行して加工用の探針1と独立に駆動できる探針2を非接触モードの原子間力顕微鏡探針として用いてドリフト補正用パターン5の連続的なイメージングを行い、前回のイメージとの比較からドリフト量を算出し、加工用の探針1の走査範囲に適宜フィードバックをかけドリフトを補正する。
Claim (excerpt)：
2つの独立に動作できる探針を備えた走査プローブ顕微鏡を用いたフォトマスクの欠陥修正方法において、黒欠陥除去や白欠陥修正といった加工とドリフト補正を別々の探針で行うことを特徴とするフォトマスクの欠陥修正方法。
F-Term (4)：
2H095BD32
, 2H095BD33
, 2H095BD34
, 2H095BD40
Cited by examiner (7)
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