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J-GLOBAL ID：200903004879612331

基板処理方法および基板処理装置

Inventor： 藤川 和憲 ,  岩田 智巳 ,  西澤 久雄
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997002474
Publication number (International publication number)：1998199850
Application date： Jan. 10, 1997
Publication date： Jul. 31, 1998
Summary：

【要約】【課題】 省スペース化を図り、基板の汚染も防止する表面処理方法と装置を提供する。【解決手段】 基板Wの周囲に処理ガス(薬液の蒸気や反応ガス)を供給して基板Wの表面処理を行う表面処理工程と、処理ガスを処理室2から排出する排出工程と、洗浄液により基板Wを洗浄する洗浄工程と、洗浄液に対して溶解性を有しかつ基板表面の表面張力を低下させる作用を有する有機溶剤の蒸気の雰囲気で、洗浄液の上昇液流内に浸漬された基板Wを引き上げて乾燥させる乾燥工程とを同一の処理室2内で行い、かつ、表面処理工程と排出工程と洗浄工程はそれぞれ1回以上行うものであり、乾燥工程前の最後の洗浄工程は、洗浄液の上昇液流内に基板Wを浸漬させて行うようにした。

Claim (excerpt)：

基板の周囲に処理ガスを供給して基板の表面処理を行う表面処理工程と、前記処理ガスを排出する排出工程と、洗浄液により基板を洗浄する洗浄工程と、洗浄液に対して溶解性を有しかつ基板表面の表面張力を低下させる作用を有する有機溶剤の蒸気の雰囲気で、洗浄液の上昇液流内に浸漬された基板を引き上げて乾燥させる乾燥工程と、を同一の処理室内で行い、かつ、前記表面処理工程と前記排出工程と前記洗浄工程はそれぞれ1回以上行うものであり、前記乾燥工程前の最後の洗浄工程は、洗浄液の上昇液流内に基板を浸漬させて行うようにしたことを特徴とする基板処理方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 基板の表面処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-294765   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板表面処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-108970   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板の洗浄・乾燥処理方法並びにその処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-140086   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 表面処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-300354   Applicant：小林芳樹, 有限会社インターフェイス技術研究所