剥離剤組成物および剥離方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：金田暢之 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001196512
Publication number (International publication number)：2002099101
Application date： Jun. 28, 2001
Publication date： Apr. 05, 2002
Summary：

【要約】【課題】銅等の腐食しやすい金属の腐食を防止しつつレジスト膜やエッチング残渣を効果的に剥離除去することができ、製品安全性に優れ、生物処理が可能で廃水処理が容易な剥離剤組成物を提供すること。【解決手段】 (a)防食剤、(b)剥離剤および(c)溶媒を含む剥離剤組成物であって、(a)防食剤が、窒素原子を含む六員環を有する複素環式化合物であることを特徴とする剥離剤組成物。

Claim (excerpt)：

(a)防食剤、(b)剥離剤および(c)溶媒を含む剥離剤組成物であって、(a)防食剤が、窒素原子を含む六員環を有する複素環式化合物であることを特徴とする剥離剤組成物。

IPC (5)：

G03F 7/42 , H01L 21/027 , H01L 21/3065 , H01L 21/308 , C09D 9/00

FI (5)：

G03F 7/42 , H01L 21/308 G , C09D 9/00 , H01L 21/30 572 B , H01L 21/302 N

F-Term (18)：

2H096AA25 , 2H096CA05 , 2H096HA23 , 2H096LA03 , 4J038RA02 , 4J038RA04 , 4J038RA05 , 4J038RA10 , 4J038RA12 , 5F004AA14 , 5F004DB26 , 5F004DB27 , 5F043AA40 , 5F043BB27 , 5F043CC16 , 5F043GG10 , 5F046MA02 , 5F046MA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

剥離剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-255696 Applicant：花王株式会社
フォトレジスト剥離液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-329872 Applicant：富士フイルムオーリン株式会社
金属腐食を減少させるための還元剤を含有しているフォトレジストストリッパー
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-268033 Applicant：ジェイティ-ベ-カ-インコ-ポレイテッド

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Cited by examiner (5)

剥離剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-255696 Applicant：花王株式会社
フォトレジスト剥離液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-329872 Applicant：富士フイルムオーリン株式会社
金属腐食を減少させるための還元剤を含有しているフォトレジストストリッパー
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-268033 Applicant：ジェイティ-ベ-カ-インコ-ポレイテッド

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