Pat
J-GLOBAL ID:200903005444358987
ヘリウムガスの精製方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
池条 重信 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000330396
Publication number (International publication number):2002137909
Application date: Oct. 30, 2000
Publication date: May. 14, 2002
Summary:
【要約】【課題】 吸着塔を大型化させることなく、大気圧プラズマ発生装置からの酸素、アルゴンを多く含んだ排ガスヘリウムから高純度ヘリウムガスを回収する。【解決手段】 大気圧プラズマ発生装置1から排出されたヘリウムガスを主成分とし、不純物として酸素、窒素、アルゴン、水分を含む排ガスヘリウムを、精製に必要な圧力まで昇圧したのち、水分を選択的に吸着する吸着剤が充填された第1吸着装置10に導入して水分を吸着除去する。しかるのち、活性炭と合成ゼオライトを2層に充填した第2吸着装置21内に導入して酸素、窒素、アルゴンを吸着除去し、高純度ヘリウムを回収する。これによって、吸着塔を大型化させることなく、ヘリウムガスを高純度、高収率で回収できる。
Claim (excerpt):
大気圧プラズマ発生装置から排出されたヘリウムガスを主成分とし、不純物として酸素、窒素、アルゴン、水分等を含む排ガスヘリウムを、精製に必要な圧力まで昇圧したのち、水分を選択的に吸着する吸着剤が充填された第1吸着装置に導入して水分を吸着除去し、次いで活性炭と合成ゼオライトを2層に充填した第2吸着装置内に導入して酸素、窒素、アルゴンを吸着除去し、高純度ヘリウムを回収することを特徴とするヘリウムガスの精製方法。
IPC (3):
C01B 23/00
, B01D 53/04
, F25J 3/08
FI (3):
C01B 23/00 C
, B01D 53/04 B
, F25J 3/08
F-Term (11):
4D012CA20
, 4D012CB15
, 4D012CD07
, 4D012CG01
, 4D047AA07
, 4D047AB03
, 4D047BA02
, 4D047BA06
, 4D047BB04
, 4D047BB10
, 4D047CA08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
光ファイバ製造のためのヘリウムの回収
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-213921
Applicant:プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド
-
特開平3-228810
-
不活性ガスの精製方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-337274
Applicant:日本パイオニクス株式会社
-
水分・炭酸ガスの除去方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-290764
Applicant:日本酸素株式会社
-
圧力スイング吸着法によるガス分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-284944
Applicant:三菱重工業株式会社
-
空気液化分離装置の前処理方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-113956
Applicant:日本酸素株式会社
Show all
Return to Previous Page