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J-GLOBAL ID:200903005473063791
マイクロプローブ並びにその製造装置及び方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
田辺 恵基
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005041142
Publication number (International publication number):2005233960
Application date: Feb. 17, 2005
Publication date: Sep. 02, 2005
Summary:
【課題】 表面に有用な保護層をもったマイクロプローブを実現する。【解決手段】 プローブ芯材の表面に、炭化水素ガスをソースガスとして用いた高周波プラズマ化学気相析出法によって水素含有アモルファス状炭素(DLC)膜層を形成することにより、電気絶縁性、かつ高硬度性をもった均一な厚さの保護膜層を形成してなるマイクロプローブを実現できる。【選択図】 図2
Claim 1:
先端にテーパ部を有しかつ針形状のガラス材上に第1の金属膜層を形成してなる第1のプローブ芯材の表面に、炭化水素ガスをソースガスとして用いた高周波プラズマ化学気相析出法によって第1の水素含有アモルファス状炭素膜層を形成した
ことを特徴とするマイクロプローブ。
IPC (5):
G01N1/00
, B01J3/00
, B01J19/08
, G01N27/30
, G01N27/416
FI (6):
G01N1/00 101A
, G01N1/00 101K
, B01J3/00 J
, B01J19/08 H
, G01N27/30 B
, G01N27/46 341M
F-Term (17):
2G052AA33
, 2G052AD32
, 2G052CA18
, 2G052GA23
, 2G052HA17
, 2G052JA13
, 4G075AA24
, 4G075CA25
, 4G075CA47
, 4G075CA62
, 4G075DA02
, 4G075DA05
, 4G075EB01
, 4G075EC21
, 4G075EE02
, 4G075FA03
, 4G075FC15
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (4)