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J-GLOBAL ID：200903006190285450

排水処理方法および排水処理装置

Inventor：
山嵜 和幸

About 山嵜 和幸

, 
中條 数美

About 中條 数美

, 
大岡 孝治

About 大岡 孝治

, 
宇田 啓一郎

About 宇田 啓一郎


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (2)： 山崎 宏 ,  前田 厚司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005060613
Publication number (International publication number)：2006239613
Application date： Mar. 04, 2005
Publication date： Sep. 14, 2006
Summary：
【課題】 有機物含有排水の処理効率を向上できると共にコンパクト化とランニングコスト低減を実現できる排水処理方法及び排水処理装置を提供する。 【解決手段】 この排水処理装置は、マイクロナノバブル反応槽3で有機物含有排水をマイクロナノバブルで処理してから、曝気槽7に導入する。これにより、曝気槽7での微生物の活性を高めて処理する前に、有機物含有排水をマイクロナノバブルで処理し、排水中の有機物をマイクロナノバブルで一部酸化し、有機物負荷を低減した後、液中膜17によって微生物濃度が高濃度に存在している曝気槽7に処理水を導入して効果的に有機物を処理できる。曝気槽7の小型化を図れて装置全体の規模の縮小化を図れ、イニシャルコストの削減を図れる。また、曝気槽7の後段の光触媒槽22では、光触媒板24による酸化処理によって微生物処理だけでは不可能な微量の有機物の高度な酸化処理を行える。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
有機物含有排水をマイクロナノバブルで処理するマイクロナノバブル処理工程と、 上記有機物含有排水を上記マイクロナノバブル処理工程で処理して得た処理水を、液中膜を用いて微生物処理する微生物処理工程と、 上記微生物処理後の処理水を光触媒処理する光触媒処理工程とを備えることを特徴とする排水処理方法。
IPC (11)：
C02F 1/74 ,  B01D 65/02 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/72 ,  C02F 3/12 ,  C02F 3/20 ,  C02F 9/00 ,  C02F 11/02
FI (19)：
C02F1/74 101 ,  B01D65/02 520 ,  B01J35/02 J ,  C02F1/30 ,  C02F1/32 ,  C02F1/44 F ,  C02F1/72 101 ,  C02F3/12 B ,  C02F3/12 S ,  C02F3/20 C ,  C02F9/00 501A ,  C02F9/00 502E ,  C02F9/00 502L ,  C02F9/00 502N ,  C02F9/00 502R ,  C02F9/00 503C ,  C02F9/00 504A ,  C02F9/00 504E ,  C02F11/02
F-Term (68)：
4D006GA07 ,  4D006HA93 ,  4D006JA31Z ,  4D006JA53Z ,  4D006KA01 ,  4D006KA31 ,  4D006KA44 ,  4D006KA71 ,  4D006KB22 ,  4D006KB30 ,  4D006KC14 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PC62 ,  4D028AC03 ,  4D028AC09 ,  4D028BC01 ,  4D028BC03 ,  4D028BC17 ,  4D028BC24 ,  4D028BD06 ,  4D028BD17 ,  4D028BE00 ,  4D029AA01 ,  4D029AB05 ,  4D029DD01 ,  4D037AA11 ,  4D037AB02 ,  4D037BA16 ,  4D037BA18 ,  4D037BB05 ,  4D037BB09 ,  4D037CA03 ,  4D037CA07 ,  4D037CA12 ,  4D050AA12 ,  4D050AB07 ,  4D050AB11 ,  4D050BB01 ,  4D050BC04 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD06 ,  4D050CA07 ,  4D050CA09 ,  4D050CA17 ,  4D059AA00 ,  4D059AA03 ,  4D059BA01 ,  4D059BK23 ,  4D059CA28 ,  4G169AA03 ,  4G169BA02A ,  4G169BA14A ,  4G169BA48A ,  4G169CA05 ,  4G169CA07 ,  4G169CA11 ,  4G169DA06 ,  4G169EA08 ,  4G169FA03 ,  4G169FB02 ,  4G169HA01 ,  4G169HC23 ,  4G169HC37 ,  4G169HD13 ,  4G169HE05 ,  4G169HF02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-288963   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • ナノ気泡の生成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-145325   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
Cited by examiner (15)
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