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J-GLOBAL ID：200903006332937344

照射方法

Inventor： 兼松 伸幸 ,  坂本 豪信 ,  土谷 昌晴
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 宮田 金雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997129476
Publication number (International publication number)：1998314323
Application date： May. 20, 1997
Publication date： Dec. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】 患部に照射する三次元的に形成された線量分布を照射の計画段階において予め明らかにし、また、その線量分布に対応した機器のパラメータの設定を可能にして計画通りの照射を行うことのできる照射方法を得る。【解決手段】 ビームの高線量領域部分の飛程に基づいてターゲットを層に分割するための間隔を定める工程、その間隔に基づいてターゲットを層に分割する工程、ターゲット全体に照射される予定線量とビームの高線量領域部分に対応するビーム強さとに基づいて分割された層各々に照射される線量を求める工程、分割された層の中の予め定められた層へ照射されるビームの強度が予め定められた層へ照射される線量に達するタイミングを求める工程、照射範囲形成手段により層の積層方向と直交する方向の照射範囲をビームが照射される層毎に定め、ビームを照射し、先のタイミングでビームが照射される層を切り替える工程を備えた。

Claim (excerpt)：

ビーム照射装置からターゲットに照射される粒子線ビームの高線量領域部分の飛程に基づいて前記ターゲットを層に分割するための分割間隔を定める第1の工程と、前記第1の工程で定められた前記分割間隔に基づいて前記ターゲットを前記層に分割する第2の工程と、前記ターゲット全体に照射される予め定められた線量と前記粒子線ビームの高線量領域部分に対応するビームの強さとに基づいて前記第2の工程で分割された層それぞれに照射される線量を求める第3の工程と、前記第2の工程で分割された層の中の予め定められた層へ照射される前記粒子線ビームの強度が前記第3の工程で求められた前記予め定められた層へ照射される線量に達するタイミングを求める第4の工程と、前記ビーム照射装置と前記ターゲットとの間に配置された照射範囲形成手段により前記層の積層方向と直交する方向の照射範囲を前記粒子線ビームが照射される層毎に定め、前記ビーム照射装置によりビームを照射し、前記第4の工程で求めた前記タイミングにより前記粒子線ビームが照射される層を切り替える第5の工程とを備えたことを特徴とする照射方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 荷電粒子ビーム装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-261605   Applicant：株式会社日立製作所
• 放射線照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-328306   Applicant：三菱電機株式会社
• 放射線治療計画装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-061254   Applicant：東芝メディカルエンジニアリング株式会社, 株式会社東芝