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J-GLOBAL ID：200903006737062280

ガス溶解水製造装置

Inventor：
吉澤 道雄

About 吉澤 道雄


Applicant, Patent owner：
オルガノ株式会社

About オルガノ株式会社


Agent (1)： 細井 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998063990
Publication number (International publication number)：1999244677
Application date： Feb. 27, 1998
Publication date： Sep. 14, 1999
Summary：
【要約】【課題】 超純水に水素ガスを溶解して水素溶解水を製造する装置において、超純水の供給流量が変動しても溶存水素濃度は変動せず、一定の溶存水素濃度を有する水素溶解水を製造することができる装置を提供する。【解決手段】 ガス溶解装置2のガス供給通路16に圧力調節計19を取り付け、該圧力調節計19に電流制御装置21を電気的に接続する。水の電気分解により発生した水素ガスを上記装置2のガス供給通路16に供給し、超純水を上記装置2の水供給通路17に供給する。超純水の供給流量が変動すると、圧力調節計19及び電流制御装置21の働きで電解電流値を変化させ、水素ガス発生量を調整してガス供給通路16内の水素ガス圧を一定にする。
Claim (excerpt)：
水の電気分解を行なう電解装置と、水の電気分解により生じたガスを純水に溶解するためのガス溶解装置と、ガス溶解装置内のガス圧力を検知して、電解装置の電解電流値を制御し、一定のガス圧力に調節するガス圧力調節手段とからなることを特徴とするガス溶解水製造装置。
IPC (4)：
B01F 1/00 ,  B01F 3/04 ,  B08B 3/00 ,  C02F 1/46
FI (4)：
B01F 1/00 A ,  B01F 3/04 Z ,  B08B 3/00 ,  C02F 1/46 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (2)

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