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J-GLOBAL ID:200903007108254211
放電電極及びそれを用いた高周波プラズマ発生装置並びに給電方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
光石 俊郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998193983
Publication number (International publication number):2000003878
Application date: Jul. 09, 1998
Publication date: Jan. 07, 2000
Summary:
【要約】【課題】 膜厚が均一な非晶質薄膜及び微結晶薄膜を製造することができるプラズマ蒸着装置及びそれに用いる高周波放電電極を提供する。【解決手段】 複数の電極棒12aを平行に並べ、その両端を電極棒12b,12cでつないで、梯子状の電極を構成してなり、給電点13(13-1〜13-4)を高周波放電電極11の一辺の二等分線を基準線14として線対称の所定の距離に配置してなり、放電分布の均一性に影響するラダー電極上の電圧分布を充分小さく抑えることができ、均一な製膜速度分布を得ることができ、大面積化しても均一な蒸着が可能となる。
Claim (excerpt):
高周波電源より整合器を介して給電される高周波プラズマ発生装置の放電電極であって、少なくとも2点以上の高周波電力の給電点を有するラダー型又はグリッド型放電電極であることを特徴とする放電電極。
IPC (3):
H01L 21/205
, C23C 16/50
, H05H 1/46
FI (3):
H01L 21/205
, C23C 16/50
, H05H 1/46 L
F-Term (20):
4K030FA01
, 4K030GA02
, 4K030JA03
, 4K030KA15
, 4K030KA30
, 5F045AA08
, 5F045AB03
, 5F045AB04
, 5F045AB33
, 5F045AC01
, 5F045AE25
, 5F045AF07
, 5F045BB02
, 5F045CA13
, 5F045CA15
, 5F045DP03
, 5F045EH04
, 5F045EH08
, 5F045EH14
, 5F045EH19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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特開平4-236781
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表面処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-156968
Applicant:アネルバ株式会社
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プラズマ発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-139515
Applicant:島田理化工業株式会社
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4分の1波長送電線を用いる多極プラズマ・システムのための改善された電力配分
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-150204
Applicant:ザビーオーシーグループインコーポレイテッド
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特開平1-243413
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真空装置への高周波電力供給方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-005687
Applicant:三菱重工業株式会社
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薄膜形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-095918
Applicant:住友金属工業株式会社
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