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J-GLOBAL ID:200903007215883728

半導体装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (8): 三好 秀和 ,  三好 保男 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  中村 友之 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002251674
Publication number (International publication number):2004095670
Application date: Aug. 29, 2002
Publication date: Mar. 25, 2004
Summary:
【課題】現在実用化されている小容量のSiC製ダイオードを用いて大きな電流容量の半導体装置を提供する。【解決手段】積層基板11上に、Si製半導体素子13と、Si製半導体素子13に接続され、互いに並列に接続された複数個のSiC製ダイオード15を実装した半導体装置。一つひとつのSiC製ダイオード15は小容量であってもこれを互いに並列に接続することで、Si製半導体素子13に対応した大電流を流すことができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
Si製半導体素子と、 前記Si製半導体素子に接続されると共に、互いに並列に接続された複数個のSiC製ダイオードと、 を有することを特徴とする半導体装置。
IPC (2):
H01L25/07 ,  H01L25/18
FI (1):
H01L25/04 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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