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J-GLOBAL ID：200903007220845257

水処理装置およびこれを備えた水処理システム

Inventor：
上原 勝

About 上原 勝

, 
松井 克明

About 松井 克明


Applicant, Patent owner：
三菱レイヨン株式会社

About 三菱レイヨン株式会社


Agent (1)： 志賀 正武 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000108478
Publication number (International publication number)：2001286881
Application date： Apr. 10, 2000
Publication date： Oct. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】 好気処理と嫌気処理からなる生物学的処理を一槽で行うことができ、同時に膜分離も行うことのできる水処理装置およびこれを備えた水処理システムを提供する。【解決手段】 分離槽11と、分離槽11内に備えられた分離膜モジュールと、分離槽11内の、分離槽膜モジュールの側方の一部に備えられた炭素繊維ユニット13と、分離膜モジュールの下方の分離槽11内に備えられ、分離膜モジュールに向けて気体を発生する散気手段とを有する水処理装置10を使用する。炭素繊維ユニット13には直接酸素が供給されず、酸素濃度の高い原水は炭素繊維ユニット13内をほとんど流れないことから、炭素繊維ユニット13において、嫌気性細菌を炭素繊維表面に吸着し、効率的に嫌気処理を行うことができる。一方、好気処理は酸素が供給される分離膜モジュール近傍で行う。
Claim (excerpt)：
原水を固液分離するととともに、原水中の汚染物を生物学的に処理する水処理装置であり、分離槽と、分離槽内に備えられた分離膜モジュールと、分離膜モジュールの下方の分離槽内に備えられ、分離膜モジュールに向けて酸素含有気体を発生する散気手段とを有し、分離槽内の分離膜モジュールの側方の一部には、炭素繊維ユニットが備えられていることを特徴とする水処理装置。
IPC (4)：
C02F 3/06 ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/30 ZAB
FI (4)：
C02F 3/06 ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 K ,  C02F 3/30 ZAB B
F-Term (32)：
4D003AA01 ,  4D003AB07 ,  4D003BA08 ,  4D003CA01 ,  4D003CA07 ,  4D003CA08 ,  4D003DA19 ,  4D003EA04 ,  4D003EA09 ,  4D003EA25 ,  4D003EA38 ,  4D003FA10 ,  4D006GA02 ,  4D006HA02 ,  4D006HA93 ,  4D006JA29A ,  4D006JA30A ,  4D006JA31A ,  4D006KA02 ,  4D006KA31 ,  4D006KA43 ,  4D006KB13 ,  4D006KB22 ,  4D006KB23 ,  4D006KD24 ,  4D006PB04 ,  4D006PB08 ,  4D006PC62 ,  4D040BB07 ,  4D040BB42 ,  4D040BB63 ,  4D040BB82
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (15)
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