グレーティング並びにグレーティング形成方法及び装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石川泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999224272
Publication number (International publication number)：2001051133
Application date： Aug. 06, 1999
Publication date： Feb. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】光ファイバのコア部内に形成された高効率且つ長寿命なグレーティングを得ると共に、当該グレーティングを簡易且つ効率的に形成することが可能なグレーティング形成方法及び装置を提供する。【解決手段】光ファイバ1のコア部3内にグレーティングGを形成する場合に、加速されたイオンを、グレーティングGに対応した形状を有するマスクを通過させ、更にマスクを通過したイオンをコア部3に注入し、当該コア部3内にグレーティングGを構成すべき屈折率変化部4を複数形成する。また、他の方法として、加速されたイオンにより形成されるイオンビームのビーム径を、グレーティングGを構成すべき屈折率変化部4の幅以下に収束させ、光ファイバ1の中心軸方向に照射位置を移動しつつイオンビームを断続的に照射してイオンをコア部3内に注入することにより、コア部3内に当該屈折率変化部4を複数形成する。

Claim (excerpt)：

光導波路のコア部内に形成されたグレーティングであって、加速されたイオンを前記コア部内に注入することにより当該コア部内に形成された複数の屈折率変化部により構成されていることを特徴とするグレーティング。

F-Term (4)：

2H050AC03 , 2H050AC82 , 2H050AC84 , 2H050AD00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

光導波路ブラッグ反射格子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-209343 Applicant：ノーザンテレコムリミテッド
光導波路型第二高調波発生素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-093956 Applicant：新日本製鐵株式会社
振幅マスク及びこれを用いた長周期回折格子フィルタの製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-205194 Applicant：三星電子株式会社

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