薄膜形成装置及び薄膜形成方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：滝本智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996009758
Publication number (International publication number)：1997192574
Application date： Jan. 24, 1996
Publication date： Jul. 29, 1997
Summary：

【要約】【課題】薄膜形成装置及び同形成方法に関し、塗布液の使用効率の悪さと膜厚の不均一さ改善しながら、所望の膜厚を的確に得ることを目的とする。【解決手段】気体による圧力を利用して被塗布基板に塗布液を吐出する吐出口を有するインクジェットヘッド12を用い、薄膜を形成する薄膜形成装置であって、更に、インクジェットヘッドの吐出口の塗布液側近傍の第1の圧力を調整する第1の調整手段B部と、インクジェットヘッドの吐出口の外方側近傍の第2の圧力を調整する第2の調整手段A部と、これらを制御することによって吐出口からの塗布液の吐出を制御する制御手段40と、を有する薄膜形成装置、またはそれを用いた薄膜形成方法である。

Claim (excerpt)：

気体供給源と、塗布液を貯蔵するタンクと、被塗布基板と、前記気体供給源からの気体による圧力を利用して前記被塗布基板に前記塗布液を吐出する吐出口を有するインクジェットヘッドと、前記被塗布基板を回転させる回転手段と、前記インクジェットヘッドと前記被塗布基板とを前記非塗布基板の中心部と外周部との間で相対移動させる相対移動手段とを備え、前記被塗布基板を前記回転手段で回転させ、かつ前記インクジェットヘッドを前記相対移動手段により相対移動させながら、前記インクジェットヘッドより前記塗布液を吐出して前記被塗布基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、更に、前記インクジェットヘッドの吐出口の塗布液側近傍の第1の圧力を調整する第1の調整手段と、前記インクジェットヘッドの吐出口の外方側近傍の第2の圧力を調整する第2の調整手段と、前記第1の圧力と前記第2の圧力の一方の圧力を基準圧力として維持し、他方の圧力と前記基準圧力とを比較して前記他方の圧力を所定の圧力に維持するように前記第1の調整手段と前記第2の調整手段とを制御することによって前記吐出口からの塗布液の吐出を制御する制御手段とを有する薄膜形成装置。

IPC (3)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 , B05C 5/00 101

FI (3)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 A , B05C 5/00 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

塗布装置および塗布方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-346141 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-199106 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
特公昭58-038108

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