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J-GLOBAL ID：200903007855848872

エネルギービームによる処理方法および処理装置

Inventor： 畠山 雅規 ,  一木 克則 ,  加藤 隆男 ,  畑村 洋太郎 ,  中尾 政之
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所 ,  畑村 洋太郎
Agent (1)： 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996082078
Publication number (International publication number)：1996318387
Application date： Mar. 11, 1996
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【課題】 パターン作製の自由度が高く、簡単な構成で任意のパターンの曲面や斜面に超微細なパターンを自由にかつ精度良く加工処理することができる方法と装置を提供し、さらに、これにより作製された性能の優れた素子を提供する。【解決手段】 エネルギービーム源1より発生したエネルギービームを遮蔽物4・・・を介して被処理物Wに照射してこれを処理する方法であって、遮蔽物4・・・を被処理物Wとは別体として形成し、これを被処理物の表面上にもしくは表面より離れた位置に位置決めし、遮蔽物4・・・の持つパターンを被処理物W表面上に転写するように処理を行う。

Claim (excerpt)：

エネルギービーム源より発生したエネルギービームを遮蔽物を介して被処理物に照射してこれを処理する方法であって、上記遮蔽物を上記被処理物とは別体として形成し、これを該被処理物の表面上にもしくは表面より離れた位置に位置決めし、該遮蔽物の持つパターンを当該被処理物表面上に転写するように処理を行うことを特徴とするエネルギービームによる処理方法。

IPC (5)：

B23K 26/06 ,  B23K 15/00 502 ,  B23K 15/00 508 ,  G21K 5/04 ,  H05H 3/02

FI (5)：

B23K 26/06 J ,  B23K 15/00 502 ,  B23K 15/00 508 ,  G21K 5/04 Z ,  H05H 3/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 微細加工法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-054022   Applicant：株式会社ニコン
• 高速原子線を用いた加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-156811   Applicant：株式会社荏原製作所