紫外線による排水の処理方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997113871
Publication number (International publication number)：1998034171
Application date： May. 01, 1997
Publication date： Feb. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明の目的は、排水中に含まれるCOD成分やBOD成分あるいは更に色度成分を迅速に酸化して、処理水質を向上するとともに、処理コストを従来の方法より削減できる紫外線照射プロセスを提供することにある。【解決手段】反応槽において排水に紫外線を照射して排水を処理する方法において、反応槽の溶存酸素(DO)を制御する。反応槽において半導体粉末を用いエアレーションを行いながら排水に紫外線を照射して排水を処理する方法において、溶存酸素(DO)を2mg/l以上に保つとともに反応槽のpHを7以下に制御する。

Claim (excerpt)：

反応槽において排水に紫外線を照射して排水を処理する方法において、反応槽の溶存酸素(DO)を制御することを特徴とする排水の処理方法。

IPC (6)：

C02F 1/72 101 , C02F 1/72 , B01J 35/02 , C02F 1/32 ZAB , C02F 1/76 , C02F 1/78

FI (6)：

C02F 1/72 101 , C02F 1/72 Z , B01J 35/02 J , C02F 1/32 ZAB , C02F 1/76 Z , C02F 1/78

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

特開昭60-118289
特開平4-114667
特開平1-119394

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