表面修飾メソポーラスシリカ、並びにそれを用いた樹脂添加用スラリー組成物、樹脂用充填剤、樹脂組成物、高周波用電子部品及び高周波回路用基板。

Inventor： , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (3)：小西富雅 , 中村知公 , 萩野幹治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007279725
Publication number (International publication number)：2009107863
Application date： Oct. 27, 2007
Publication date： May. 21, 2009
Summary：

【課題】メソポーラスシリカの表面に存在するシラノール基の化学修飾が充分なされており、誘電率の低い表面修飾メソポーラスシリカ、並びにそれを用いた樹脂添加用スラリー組成物、樹脂用充填剤及び樹脂組成物を提供する。【解決手段】細孔径が1.5nm以上のメソポーラスシリカの表面に存在するシラノール基が疎水性の官能基で化学修飾されている。メソポーラスシリカの平均細孔径は1.5nm以上と大きいため、化学修飾するための試薬が細孔内部まで入り易く、疎水性の官能基で化学修飾される修飾率が高くなり、細孔内部においても、誘電率を下げる効果に寄与する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

平均細孔径が1.5nm以上のメソポーラスシリカの表面に存在するシラノール基が疎水性の官能基で化学修飾されていることを特徴とする表面修飾メソポーラスシリカ。

IPC (3)：

C01B 37/02 , C08L 101/00 , C08K 3/36

FI (3)：

C01B37/02 , C08L101/00 , C08K3/36

F-Term (22)：

4G073BB57 , 4G073BB58 , 4G073BB60 , 4G073BB71 , 4G073BC05 , 4G073BC10 , 4G073CZ54 , 4G073FF05 , 4G073GA13 , 4G073GA28 , 4G073UB19 , 4J002AA021 , 4J002CC031 , 4J002CD001 , 4J002CF211 , 4J002CH061 , 4J002CK021 , 4J002CM041 , 4J002DJ016 , 4J002FD016 , 4J002GQ00 , 4J002GQ05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

樹脂組成物およびそれを用いた配線回路基板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-244233 Applicant：国立大学法人名古屋工業大学, 公立大学法人首都大学東京, 日鉄鉱業株式会社, 日東電工株式会社
シリカ系被膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-242037 Applicant：大久保達也
低誘電率フィラーと、これを用いた低誘電率組成物および低誘電率膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-358610 Applicant：住友大阪セメント株式会社

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Cited by examiner (9)

低誘電率フィラーと、これを用いた低誘電率組成物および低誘電率膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-358610 Applicant：住友大阪セメント株式会社
フィラー含有スラリー組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-266978 Applicant：トヨタ自動車株式会社, 株式会社アドマテックス
メソポーラスシリカ、メソポーラスシリカ複合体及びそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-033191 Applicant：日本碍子株式会社, 上山惟一

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