Pat
J-GLOBAL ID：200903008005237250
レーザ光発生装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996348869
Publication number (International publication number)：1998186428
Application date： Dec. 26, 1996
Publication date： Jul. 14, 1998
Summary：
【要約】【課題】 基本波R1より、2次高調波発生用非線形光学結晶2、4次高調波発生用非線形光学結晶10及び5次高調波発生用非線形光学結晶12を用いて、5次高調波を発生せしめる装置において、結晶を含む光学系の損傷を減少させつつ、限られた基本平均パワーから最大限の5次高調波平均パワーを得る。【解決手段】 2次高調波発生用非線形光学結晶2の結晶長、結晶温度、結晶の角度、結晶印加電圧、入射光の中心波長、入射光の波長分布のうちのいずれか1以上を選択または制御することにより、2次高調波発生用非線形光学結晶2内での2次高調波の時間平均発生出力を結晶内部へ入射する基本波R1の時間平均出力に対する50%から70%の間に設定する。
Claim (excerpt)：
基本波となる連続波レーザ光を発する光源と、上記基本波が入射される2次高調波発生用非線形光学結晶と、上記2次高調波発生用非線形光学結晶において発生された2次高調波が入射される4次高調波発生用非線形光学結晶と、上記2次高調波発生用非線形光学結晶を透過した基本波及び上記4次高調波発生用非線形光学結晶において発生された4次高調波が入射され、これらを和周波混合して5次高調波を発生する5次高調波発生用非線形光学結晶とを備え、上記2次高調波発生用非線形光学結晶内での2次高調波の時間平均発生出力は、この2次高調波発生用非線形光学結晶内部へ入射される基本波の時間平均出力に対して、50%乃至70%の間に設定されているレーザ光発生装置。
IPC (4)：
G02F 1/37
, H01S 3/109
, H01S 3/11
, H01S 3/16
G02F 1/37
, H01S 3/109
, H01S 3/11
, H01S 3/16
