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J-GLOBAL ID：200903008011600375

感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ

Inventor：
佐野 公康

About 佐野 公康

, 
蓑輪 貴樹

About 蓑輪 貴樹

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西村 秀樹

About 西村 秀樹

, 
西川 通則

About 西川 通則


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002334547
Publication number (International publication number)：2004170566
Application date： Nov. 19, 2002
Publication date： Jun. 17, 2004
Summary：
【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物、該感放射線性樹脂組成物を用いて層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法、ならびにその方法により形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、[A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)エポキシ基含有不飽和化合物、ならびに(a3)(a1)および(a2)以外のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、ならびに[B]特定のフェノール化合物と1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドの縮合物を含有する。層間絶縁膜およびマイクロレンズは上記感放射線性樹脂組成物から形成される。【選択図】 なし。
Claim (excerpt)：
[A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、 (a2)エポキシ基含有不飽和化合物、ならびに (a3)(a1)および(a2)以外のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、ならびに [B]2-メチル-2-(2,4-ジヒドロキシフェニル)-4-(4-ヒドロキシフェニル)-7-ヒドロキシクロマン、2-[ビス{(5-イソプロピル-4-ヒドロキシ-2-メチル)フェニル}メチル]フェノール、1-[1-(3-{1-(4-ヒドロキシフェニル)-1-メチルエチル}-4,6-ジヒドロキシフェニル)-1-メチルエチル]-3-(1-(3-{1-(4-ヒドロキシフェニル)-1-メチルエチル}-4,6-ジヒドロキシフェニル)-1-メチルエチル)ベンゼン、および4,6-ビス{1-(4-ヒドロキシフェニル)-1-メチルエチル}-1,3-ジヒドロキシベンゼンのうちから選ばれる少なくとも一種と1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドの縮合物を含有することを特徴とする、感放射線性樹脂組成物。
IPC (6)：
G03F7/033 ,  C08G59/62 ,  G02B3/00 ,  G03F7/022 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027
FI (6)：
G03F7/033 ,  C08G59/62 ,  G02B3/00 Z ,  G03F7/022 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R
F-Term (30)：
2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AA14 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA10 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04 ,  4J036AK09 ,  4J036DD04 ,  4J036HA02 ,  4J036HA03 ,  4J036JA09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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