感放射線性樹脂組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998029954
Publication number (International publication number)：1999231518
Application date： Feb. 12, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】高解像度で良好なフォーカス許容性および保存安定性、膜厚均一性に優れたポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】特定のポリフェノール類と1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸クロリドおよび1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリドとの縮合物並びにアルカリ可溶性ノボラック樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂およびキノンジアジドスルホン酸エステル化合物を含有する感放射線性樹脂組成物であって、該キノンジアジドスルホン酸エステル化合物が、下記式(1)〜(5):【化1】[式(1)中、X1〜X15は、各々同一または異なり、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基または水酸基であり、X1〜X5、X6〜X10およびX11〜X15のそれぞれの組み合わせにおいて少なくとも1つは水酸基である。]【化2】[式(2)中、X16〜X24は、前記X1〜X15と同様の原子または基を意味する。但し、X16〜X20またはX25〜X29のそれぞれの組み合わせにおいて少なくとも1つは水酸基である。Y1〜Y4は、水素原子またはアルキル基である。]【化3】[式(3)において、X30〜X43は、各々同一または異なり、水素原子、アルキル基、アルコキシ基または水酸基である。但し、X30〜X33またはX34〜X38のそれぞれの組み合わせにおいて少なくとも1つは水酸基である。Y5およびY6は前記Y1〜Y4と同様の原子または基を意味する。]【化4】[式(4)において、X44〜X49は前記X30〜X43と同様の原子または基を意味する。但し、X44〜X46またはX47〜X49のそれぞれの組み合わせにおいて少なくとも1つは水酸基である。Y7〜Y10は前記Y1〜Y4と同様の原子または基を意味する。]【化5】[式(5)中、X50〜X72は前記X1〜X15と同様の原子または基を意味する。但し、X50〜X54、X55〜X59、X60〜X64およびX65〜X69のそれぞれの組み合わせにおいて少なくとも1つは水酸基である。]のそれぞれによって表される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種のフェノール類と、1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸クロリドおよび1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリドとの縮合物であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (4)：

G03F 7/022 , G03F 7/004 501 , G03F 7/023 511 , G03F 7/20 502

FI (4)：

G03F 7/022 , G03F 7/004 501 , G03F 7/023 511 , G03F 7/20 502

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

画像反転陰画作用フォトレジスト
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-149596 Applicant：ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション
特開平4-211254
ポジ型フオトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-059371 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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