薄膜蝕刻方法及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (9)：岡部正夫 , 加藤伸晃 , 産形和央 , 岡部讓 , 臼井伸一 , 越智隆夫 , 本宮照久 , 朝日伸光 , 三山勝巳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005186193
Publication number (International publication number)：2006135289
Application date： Jun. 27, 2005
Publication date： May. 25, 2006
Summary：

【課題】フェムト秒レーザーを用いて薄膜を蝕刻することによって工程の単純化及び生産性の向上が図られる薄膜蝕刻方法及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に薄膜を形成する段階と、この薄膜上部にパターン形状が定義されたマスクを整列する段階と、このマスクに定義されたパターン形状を有するように前面にフェムト秒レーザーを照射して薄膜を選択的に除去する段階とを備える。【選択図】図3b

Claim (excerpt)：

基板上に薄膜を形成する段階と、前記薄膜上部に、パターン形状が定義されたマスクを整列する段階と、前記マスクに定義されたパターン形状を有するように、全面にフェムト秒レーザーを照射して前記薄膜を選択的に除去する段階と、を備えることを特徴とする薄膜蝕刻方法。

IPC (9)：

H01L 21/336 , H01L 29/786 , G02F 1/13 , G02F 1/133 , G02F 1/136 , H01L 21/28 , H01L 21/302 , H01S 3/00 , H01L 21/321

FI (11)：

H01L29/78 627C , G02F1/13 101 , G02F1/1335 505 , G02F1/1368 , H01L21/28 E , H01L21/302 201B , H01S3/00 B , H01L21/88 D , H01L29/78 612D , H01L29/78 617J , H01L29/78 616K

F-Term (110)：

2H088FA03 , 2H088FA04 , 2H088FA09 , 2H088HA02 , 2H088HA04 , 2H088HA08 , 2H088HA12 , 2H088HA14 , 2H088MA20 , 2H091FA02Y , 2H091FA35Y , 2H091FB02 , 2H091FB08 , 2H091FC16 , 2H091FD04 , 2H091GA03 , 2H091GA07 , 2H091GA13 , 2H091LA12 , 2H092JA24 , 2H092MA04 , 2H092MA12 , 2H092NA27 , 2H092PA08 , 2H092PA09 , 4M104AA01 , 4M104AA08 , 4M104AA09 , 4M104BB02 , 4M104BB04 , 4M104BB13 , 4M104BB14 , 4M104BB16 , 4M104BB17 , 4M104BB18 , 4M104BB36 , 4M104CC01 , 4M104CC05 , 4M104DD32 , 4M104DD61 , 4M104DD65 , 4M104DD71 , 4M104DD81 , 4M104GG08 , 4M104GG09 , 4M104HH20 , 5F004AA09 , 5F004BA20 , 5F004BB03 , 5F004DB03 , 5F004DB07 , 5F004DB08 , 5F004DB23 , 5F004DB26 , 5F004EB02 , 5F004EB03 , 5F033GG04 , 5F033HH08 , 5F033HH11 , 5F033HH17 , 5F033HH18 , 5F033HH19 , 5F033HH20 , 5F033HH21 , 5F033HH22 , 5F033HH38 , 5F033JJ01 , 5F033JJ38 , 5F033PP06 , 5F033PP15 , 5F033QQ08 , 5F033QQ09 , 5F033QQ11 , 5F033QQ28 , 5F033QQ53 , 5F033QQ54 , 5F033RR04 , 5F033RR06 , 5F033RR21 , 5F033VV15 , 5F033WW00 , 5F033XX33 , 5F110BB01 , 5F110CC07 , 5F110EE02 , 5F110EE03 , 5F110EE04 , 5F110EE06 , 5F110EE43 , 5F110EE44 , 5F110EE45 , 5F110FF02 , 5F110FF03 , 5F110FF27 , 5F110GG02 , 5F110GG15 , 5F110HK09 , 5F110HK16 , 5F110HK21 , 5F110HK32 , 5F110HL07 , 5F110HL22 , 5F110NN02 , 5F110NN23 , 5F110NN24 , 5F110NN27 , 5F110NN72 , 5F110QQ01 , 5F172ZZ01 , 5F172ZZ20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

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Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-274792 Applicant：エルジーフィリップスエルシーディーカンパニーリミテッド
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