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J-GLOBAL ID：200903008769895783

プラズマ成膜装置

Inventor：
岡田 智

About 岡田 智

, 
吉田 誠

About 吉田 誠

, 
新野 史

About 新野 史


Applicant, Patent owner：
スタンレー電気株式会社

About スタンレー電気株式会社


Agent (2)： 多田 公子 ,  宮川 佳三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007068480
Publication number (International publication number)：2008231456
Application date： Mar. 16, 2007
Publication date： Oct. 02, 2008
Summary：
【課題】プラズマCVDによる成膜と、蒸発源を用いる成膜とを、成膜空間を大気圧に開放することなく、連続して行うことのできる成膜装置を提供する。【解決手段】蒸発材料8aが充填される坩堝8bの開口には、開閉可能な遮蔽部材8cが配置され、遮蔽部材8cは、プラズマ源2の陽極を兼用する。これにより、プラズマCVD工程では、陽極を兼用する遮蔽部材8cによって蒸発材料8aを遮蔽することができるため、蒸発材料8aに膜が付着しない。また、遮蔽部材8cを陽極とすることにより、遮蔽部材8cがプラズマの放電に影響を与えない。また、遮蔽部材8cを開放し、蒸発材料8aを蒸発させて蒸着工程を行うことができる。遮蔽部材8cがプラズマ5aで加熱されるため、遮蔽部材8cの内側に付着する蒸発物を蒸発させて除去することも可能である。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
成膜室と、直流プラズマを発生するプラズマ源と、前記成膜室に配置され、蒸発材料が充填される坩堝と、前記成膜室に原料ガスを導入するためのガス導入管とを有し、 前記坩堝の開口には、開閉可能な遮蔽部材が配置され、該遮蔽部材は、前記プラズマ源の陽極を兼ねることを特徴とするプラズマ成膜装置。
IPC (4)：
C23C 14/32 ,  C23C 16/503 ,  C08J 7/06 ,  C08J 7/00
FI (4)：
C23C14/32 A ,  C23C16/503 ,  C08J7/06 Z ,  C08J7/00 306
F-Term (43)：
4F006AA36 ,  4F006AB67 ,  4F006AB74 ,  4F006BA02 ,  4F006BA16 ,  4F006DA01 ,  4F006DA05 ,  4F006EA03 ,  4F073AA07 ,  4F073AA13 ,  4F073BA26 ,  4F073BB01 ,  4F073CA01 ,  4F073CA05 ,  4F073CA07 ,  4F073CA08 ,  4F073CA10 ,  4F073CA51 ,  4F073CA62 ,  4F073CA70 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA49 ,  4K029CA04 ,  4K029DA04 ,  4K029DA12 ,  4K029DB12 ,  4K029DB13 ,  4K029DB17 ,  4K029DB18 ,  4K029DB21 ,  4K029DD06 ,  4K029FA01 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA14 ,  4K030BA44 ,  4K030BB12 ,  4K030CA07 ,  4K030EA04 ,  4K030FA01 ,  4K030HA03 ,  4K030KA14
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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