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J-GLOBAL ID：200903009338604052

成膜方法

Inventor： 畠山 雅規 ,  一木 克則 ,  小畑 忠輔 ,  畑村 洋太郎 ,  中尾 政之
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所 ,  畑村 洋太郎
Agent (1)： 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995197996
Publication number (International publication number)：1996170163
Application date： Jul. 11, 1995
Publication date： Jul. 02, 1996
Summary：

【要約】【課題】 被加工物の任意の面あるいは場所に任意のパターン形状の成膜をおこなう。【解決手段】 低エネルギーの成膜用ガス粒子ビームを発生するビーム源から放射されたビーム21を被加工物25の表面に照射して成膜するに、該ビーム源と被加工物とを相対移動せしめて、被加工物25の任意の面または位置に任意の成膜パターン27を形成する。

Claim (excerpt)：

低エネルギーの成膜用ガス粒子ビームを発生するビーム源から放射されたビームを被加工物の表面に照射して成膜するに、該ビーム源と被加工物とを相対移動せしめて、被加工物の任意の面または位置に任意の成膜パターンを形成することを特徴とする成膜方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

• 集束イオンビーム蒸着装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-009303   Applicant：株式会社島津製作所
• マイクロマシニング方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-004400   Applicant：富士電機株式会社
• 特開昭64-053410
  
• 特開昭63-132203
  
• 特開昭63-152120
  
• 特開昭55-032040
  
• 特開平3-138356
  

Cited by examiner (2)

• 集束イオンビーム蒸着装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-009303   Applicant：株式会社島津製作所
• マイクロマシニング方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-004400   Applicant：富士電機株式会社