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J-GLOBAL ID：200903009438277598

パターン形成方法、カラーフィルター付基板及び表示素子

Inventor：
佐藤 守正

About 佐藤 守正


Applicant, Patent owner：
富士フイルムホールディングス株式会社

About 富士フイルムホールディングス株式会社


Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005195469
Publication number (International publication number)：2007011231
Application date： Jul. 04, 2005
Publication date： Jan. 18, 2007
Summary：
【課題】 ITO膜をその上に形成した場合に、面内での抵抗値変動を小さく維持したまま、且つ低抵抗なITO膜とすることができるパターンの形成方法、該パターン形成方法によって画素を形成したカラーフィルター付基板、及び該カラーフィルター付基板を備えた表示素子を提供する。【解決手段】 基板上に光重合系感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を設ける樹脂層形成工程と、レーザーにより露光を行うパターン露光工程と、前記パターン露光後の感光性樹脂層を現像する現像工程と、前記現像後の感光性樹脂層を熱処理するポストベーク工程と、を少なくとも経てカラーフィルターのパターンを得るパターン形成方法、該形成方法によってカラーフィルターを形成したカラーフィルター付基板、及び該カラーフィルター付基板を備えた表示素子【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
基板上に光重合系感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を設ける樹脂層形成工程(a)と、レーザーにより前記感光性樹脂層に露光を行うパターン露光工程(b)と、前記パターン露光後の感光性樹脂層を現像する現像工程(c)と、前記現像後の感光性樹脂層を熱処理するポストベーク工程(d)と、を少なくとも経てカラーフィルターのパターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4)：
G02B 5/20 ,  G02F 1/133 ,  G02F 1/134 ,  G03F 7/40
FI (4)：
G02B5/20 101 ,  G02F1/1333 500 ,  G02F1/1343 ,  G03F7/40 501
F-Term (34)：
2H048BA11 ,  2H048BA43 ,  2H048BA45 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB10 ,  2H048BB42 ,  2H090JA06 ,  2H090JB02 ,  2H090JC07 ,  2H090LA01 ,  2H090LA15 ,  2H092GA12 ,  2H092GA24 ,  2H092GA27 ,  2H092GA32 ,  2H092GA40 ,  2H092GA45 ,  2H092HA04 ,  2H092JB01 ,  2H092JB21 ,  2H092KA18 ,  2H092KB04 ,  2H092MA10 ,  2H092MA31 ,  2H092NA28 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096BA05 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA03 ,  2H096JA04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • レーザ繰り返し率増倍器
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-566933   Applicant：オルボテックリミテッド
  • 画像記録装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-011816   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
Cited by examiner (8)
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