Pat
J-GLOBAL ID:200903009456499662
レーザ加工方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 石田 悟
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004280377
Publication number (International publication number):2005001001
Application date: Sep. 27, 2004
Publication date: Jan. 06, 2005
Summary:
【課題】 加工対象物が種々の積層構造を有する場合においても加工対象物を高精度に切断することのできるレーザ加工方法を提供する。【解決手段】 基板15を含む平板状のウェハ1aの裏面21に伸張性のエキスパンドテープ23を装着し、ウェハ1aの表面3をレーザ光入射面として基板15の内部に集光点Pを合わせてレーザ光Lを照射することにより多光子吸収による溶融処理領域13を形成し、この溶融処理領域13によって、ウェハ1aの切断予定ライン5に沿ってレーザ光入射面から所定距離内側に切断起点領域8を形成し、エキスパンドテープ23を伸張させることにより、切断起点領域8を起点としてウェハ1aを複数の部分に、互いに間隔があくように切断する工程を備えることを特徴とする。【選択図】 図21
Claim (excerpt):
基板を含む平板状の加工対象物の一方の面に伸張性のフィルムを装着し、前記加工対象物の他方の面をレーザ光入射面として前記基板の内部に集光点を合わせてレーザ光を照射することにより多光子吸収による改質領域を形成し、この改質領域によって、前記加工対象物の切断予定ラインに沿って前記レーザ光入射面から所定距離内側に切断起点領域を形成し、前記フィルムを伸張させることにより、前記切断起点領域を起点として前記加工対象物を複数の部分に、互いに間隔があくように切断する工程を備える、レーザ加工方法。
IPC (3):
B23K26/00
, B28D5/00
, H01L21/301
FI (4):
B23K26/00 320E
, B28D5/00 Z
, H01L21/78 B
, H01L21/78 X
F-Term (13):
3C069AA01
, 3C069BA08
, 3C069BB03
, 3C069BB04
, 3C069CA05
, 3C069CA11
, 3C069CB01
, 3C069EA02
, 4E068AA01
, 4E068AE01
, 4E068CA09
, 4E068CA11
, 4E068DA10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
-
レーザ加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-278768
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
半導体ウェーハの延伸分離方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-235602
Applicant:ソニー株式会社
-
ウエハの切断分離方法およびウエハの切断分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-369945
Applicant:株式会社デンソー
-
特開平3-234043
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Cited by examiner (5)
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レーザ加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-278768
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
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半導体ウェーハの延伸分離方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-235602
Applicant:ソニー株式会社
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ウエハの切断分離方法およびウエハの切断分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-369945
Applicant:株式会社デンソー
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特開平3-234043
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特開平3-234043
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