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J-GLOBAL ID：200903009668938399

マイクロ波供給器

Inventor： 鈴木 伸昌 ,  松尾 学 ,  小田 博久
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998359179
Publication number (International publication number)：1999329792
Application date： May. 18, 1998
Publication date： Nov. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 大面積均一な平板状の高密度低電位プラズマを発生できる、マイクロ波を提供する。【解決手段】 容器1内に配された被処理体Wに対向して設けられ誘電体窓4を透してマイクロ波を容器1内に導入するマイクロ波供給器において、平板状のH面に所定の間隔で設けられていた複数のスロットを有する環状導波路を複数同心状に有していることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

互いに離間して設けられた複数のスロットを有する平面状のH面と、マイクロ波の進行方向に垂直な矩形断面と、を有する環状導波路を該H面が同一平面となるように複数同心状に備え、各環状導波路の該平面状のH面に設けられた該複数のスロットより、マイクロ波を供給するマイクロ波供給器。

IPC (7)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H01Q 21/06

FI (8)：

H05H 1/46 B ,  H05H 1/46 C ,  C23C 16/50 E ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01Q 21/06 ,  H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特許第2925535号
  
• 特開平3-094422
  
• マイクロ波プラズマCVD装置及び堆積膜形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-227305   Applicant：キヤノン株式会社
• プラズマ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-176443   Applicant：株式会社東芝
• 特開平3-019332
  
• 無端環状導波管を有するマイクロ波導入装置及び 該装置を備えたプラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-319223   Applicant：キヤノン株式会社