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J-GLOBAL ID：200903009675430929

高濃度オゾン水、同オゾン水の調製方法、および同オゾン水を使用した洗浄方法

Inventor： 清水 克則 ,  岩本 嘉夫
Applicant, Patent owner： エム・イー・エム・シー株式会社
Agent (1)： 渡邉 一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999203741
Publication number (International publication number)：2001035827
Application date： Jul. 16, 1999
Publication date： Feb. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】 高濃度のオゾンを含有する超純水の提供、同超純水の調製方法の提供、および同超純水を使用した作業効率に優れたウェーハの洗浄方法の提供。【解決手段】 クエン酸、酢酸、蟻酸などの特定の酸にオゾンを吹き込み、このものを超純水で希釈するか、または、所定量の酸を含有する超純水にオゾンを吹き込むことにより達成。

Claim (excerpt)：

オゾンを少なくとも55ppm含むオゾン水。

IPC (3)：

H01L 21/304 647 ,  C01B 13/10 ,  C23G 1/00

FI (3)：

H01L 21/304 647 A ,  C01B 13/10 D ,  C23G 1/00

F-Term (14)：

4G042CE01 ,  4K053PA01 ,  4K053PA13 ,  4K053RA07 ,  4K053RA19 ,  4K053RA32 ,  4K053RA45 ,  4K053RA46 ,  4K053RA47 ,  4K053RA51 ,  4K053RA57 ,  4K053SA06 ,  4K053SA19 ,  4K053TA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 半導体基板の処理薬液及び半導体基板の薬液処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-283744   Applicant：日本電気株式会社
• シリコーンウェハの表面上での金属汚染を減少させる方法および変性クリーニング溶液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-078987   Applicant：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
• 表面処理組成物及び表面処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-056087   Applicant：三菱化学株式会社