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J-GLOBAL ID：200903009728866163

X線集光装置

Inventor：
津村 尚史

About 津村 尚史

, 
岡田 浩巳

About 岡田 浩巳


Applicant, Patent owner：
株式会社ジェイテック

About 株式会社ジェイテック


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006124378
Publication number (International publication number)：2007271595
Application date： Mar. 31, 2006
Publication date： Oct. 18, 2007
Summary：
【課題】放射光施設で用いられる硬X線、軟X線を集光させるためX線集光装置であって、大きな開口数(NA)を有するK-Bミラーのアライメントを高精度且つ迅速に行うことが可能なミラーマニピュレータを備え、集光スポットが100nm以下の高い空間分解能を達成することが可能なX線集光装置を提供する。【解決手段】光源と集光点を焦点とする楕円の形状が作り込まれた2枚の全反射ミラーからなる第1ミラー1と第2ミラー2を互に垂直に配置したK-Bミラー配置とし、2本の平行なレーザービームの一方を、水平に配した第1ミラーに垂直に入射し、他方を垂直に配した第2ミラーに90°方向を変換して垂直に入射し、両ミラーからの反射ビームが入射ビームと重なるように調節する。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
放射光施設で用いられる硬X線、軟X線を集光スポットが100nm以下の高い空間分解能で集光させるためのX線集光装置であって、光源と集光点を焦点とする楕円の形状が作り込まれた2枚の全反射ミラーからなる第1ミラーと第2ミラーを互に垂直に配置したK-Bミラー配置とし、2本の平行なレーザービームの一方を、水平に配した前記第1ミラーに垂直に入射し、他方を垂直に配した前記第2ミラーに90°方向を変換して垂直に入射し、両ミラーからの反射ビームが入射ビームと重なるように調節することを特徴とするX線集光装置。
IPC (2)：
G21K 1/06 ,  H05H 13/04
FI (4)：
G21K1/06 P ,  G21K1/06 M ,  G21K1/06 Z ,  H05H13/04 U
F-Term (6)：
2G085AA13 ,  2G085BE04 ,  2G085BE06 ,  2G085BE08 ,  2G085DA03 ,  2G085DB02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • X線顕微鏡用光学装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-069613   Applicant：キヤノン株式会社
  • 特許3643866号公報
Cited by examiner (3)

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