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J-GLOBAL ID:200903009846255411
破砕法によるシリカゲル粒子、その製法及びその用途
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴木 郁男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997147051
Publication number (International publication number):1998324517
Application date: May. 22, 1997
Publication date: Dec. 08, 1998
Summary:
【要約】【課題】 粉体としての優れた流動性、優れた濾過性、スラリーとしての低粘性、抑制された粉立ち、向上した粒子強度、低減した磨耗傾向等を有するシリカゲル粒子及びその製法を提供する。またそのシリカゲル粒子をビールの安定化処理剤、インクジェット記録紙用填剤、各種担体の用途に提供する。【解決手段】 40乃至70重量%の水分含有率を有する含水シリカゲルの塊状物を、乾式で旋回流型ジェットミルで解砕処理し、特定の物性を持ち球状乃至球状近似であるシリカゲル粒子。
Claim (excerpt):
破砕法によるシリカゲル粒子であって、体積基準のメジアン径(50%粒径)が2.5乃至20μmの範囲にあると共にメジアン径の3/4以下の粒径の粒子の含有量が35重量%以下であり、電子顕微鏡で観察してメジアン径の0.5乃至2倍の粒子についての真円度が70乃至95の範囲にあると共に90度以内の角を有する粒子の個数%が10以内であり、BET比表面積が200乃至500m2 /g及び窒素吸着法による細孔容積が0.4乃至1.5ml/gの範囲にあり、且つ110°C乾燥物について鉄シリンダー法で測定した嵩密度が0.3乃至0.6g/mlの範囲にあるシリカゲル粒子。
IPC (6):
C01B 33/157
, B01D 15/00
, B01J 20/10
, B41M 5/00
, C12C 5/02
, C12C 11/00
FI (6):
C01B 33/157
, B01D 15/00 Z
, B01J 20/10 D
, B41M 5/00 B
, C12C 5/02
, C12C 11/00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
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低密度多孔性シリカゲル粉末の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-272774
Applicant:サンヨン・セメント・インダストリアル・カンパニー・リミテッド
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特開昭55-104911
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濾過助剤用シリカゲル及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-025276
Applicant:日本シリカ工業株式会社
-
微細沈殿ケイ酸及びその製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-334661
Applicant:日本シリカ工業株式会社
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特開平4-037603
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粉状ゲルの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-194405
Applicant:三菱化学株式会社
-
粗砕化された湿潤ゲル及び乾燥ゲルの製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-012319
Applicant:三菱化成株式会社
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特開昭62-256716
-
特開昭59-213611
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低比表面積シリカゲル及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-025279
Applicant:日本シリカ工業株式会社
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高吸油性多孔質シリカ及びその製造方法並びに担体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-215650
Applicant:塩野義製薬株式会社
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