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J-GLOBAL ID：200903010105947454

プラズマ処理装置

Inventor： 奥村 智洋 ,  中山 一郎 ,  柳 義弘
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 石原 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994219323
Publication number (International publication number)：1996083696
Application date： Sep. 14, 1994
Publication date： Mar. 26, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高周波誘導結合方式プラズマ処理装置において、放電コイル用マッチング回路のマッチング用並列コイルによる電力効率の低下を小さくし、温度上昇を小さくする。【構成】 真空容器と、基板電極と、放電コイルと、高周波電源と、放電コイルに導線にて接続されるとともに高周波電源に接続ケーブルにて接続されたマッチング回路とを備え、放電コイルに高周波電圧を印加することにより真空容器内にプラズマを発生させて基板電極上の基板を処理するプラズマ処理装置において、放電コイルを、一部又は全部が多重渦形の放電コイル1又は多重螺旋形の放電コイルにて構成した。

Claim (excerpt)：

真空容器と、基板電極と、放電コイルと、高周波電源と、放電コイルに導線にて接続され高周波電源に接続ケーブルにて接続されたマッチング回路とを備え、放電コイルに高周波電圧を印加することにより真空容器内にプラズマを発生させて基板電極上の基板を処理するプラズマ処理装置において、放電コイルをその一部又は全部を多重の渦形にしたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭64-057600
  
• プラズマ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-013981   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• プラズマ発生電極装置およびプラズマ発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-165624   Applicant：日本碍子株式会社
• プラズマ生成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-216232   Applicant：住友金属工業株式会社