耐蝕性部材

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高山宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999018471
Publication number (International publication number)：2000219574
Application date： Jan. 27, 1999
Publication date： Aug. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】腐蝕ガスあるいはそれらのプラズマに対して、高い耐蝕性が有し、緻密で気孔の少ない弗化物セラミックスからなる耐蝕性部材を提供すること。【解決手段】腐蝕ガスあるいはそれらのプラズマの雰囲気で用いられる耐蝕性部材であって、少なくとも腐蝕ガスあるいはそれらのプラズマに露呈される部位が、気孔率が2%以下である緻密質の弗化物セラミックスによって構成される。

Claim (excerpt)：

腐蝕ガスあるいはそれらのプラズマの雰囲気で用いられる耐蝕性部材であって、少なくとも腐蝕ガスあるいはそれらのプラズマに露呈される部位が、気孔率が2%以下である緻密質の弗化物セラミックスによって構成されることを特徴とする耐蝕性部材。

IPC (3)：

C04B 35/553 , C04B 41/87 , C23C 14/06

FI (5)：

C04B 35/00 U , C04B 41/87 D , C04B 41/87 F , C04B 41/87 J , C23C 14/06 G

F-Term (17)：

4G030AA58 , 4G030AA59 , 4G030BA33 , 4G030CA08 , 4G030GA04 , 4G030GA11 , 4G030GA22 , 4G030GA26 , 4G030GA27 , 4G030GA29 , 4K029AA04 , 4K029AA24 , 4K029BA42 , 4K029BC01 , 4K029BD01 , 4K029CA00 , 4K029CA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

高密度フッ化アルミニウム焼結体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-248698 Applicant：東芝セラミックス株式会社
半導体製造用耐食性部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-155798 Applicant：京セラ株式会社
プラズマ処理反応器内の導電性の面を保護するための方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-008690 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

高密度MgF2焼結体の作製と特性評価

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