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J-GLOBAL ID：200903010709908740

超純水製造装置

Inventor：
大澤 公伸

About 大澤 公伸


Applicant, Patent owner：
栗田工業株式会社

About 栗田工業株式会社


Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002068781
Publication number (International publication number)：2003266097
Application date： Mar. 13, 2002
Publication date： Sep. 24, 2003
Summary：
【要約】【課題】 シリカ、ホウ素等の弱電解物質において、高い水質を要求される半導体等の分野に好適な、一次純水システムにおいてこれらを高度に除去することができる超純水製造装置を提供する。【解決手段】 前処理システム1と、一次純水システム2と、サブシステム3とを有する超純水製造装置。一次純水システム2は、逆浸透膜分離装置22、脱ガス装置21、電気脱イオン装置23、紫外線酸化装置24、及び非再生型イオン交換装置25の順、或いは、脱ガス装置21、逆浸透膜分離装置22、電気脱イオン装置23、紫外線酸化装置24、及び非再生型イオン交換装置25の順で接続されて構成されている。
Claim (excerpt)：
前処理システムと、該前処理システムによって処理された前処理水を処理して一次純水とする一次純水システムと、一次純水を処理するサブシステムとを有する超純水製造装置において、該一次純水システムが、逆浸透膜分離装置、脱ガス装置、電気脱イオン装置、紫外線酸化装置、及び非再生型イオン交換装置の順で接続された構成とされていることを特徴とする超純水製造装置。
IPC (12)：
C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 504 ,  B01D 19/00 ,  B01D 61/48 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/469 ,  C02F 1/72 101
FI (16)：
C02F 9/00 503 B ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 M ,  C02F 9/00 502 N ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 504 B ,  C02F 9/00 504 D ,  B01D 19/00 H ,  B01D 61/48 ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/44 J ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/46 103
F-Term (58)：
4D006GA03 ,  4D006GA17 ,  4D006GA32 ,  4D006JA30Z ,  4D006KA01 ,  4D006KA31 ,  4D006KA72 ,  4D006KB04 ,  4D006KB11 ,  4D006KB17 ,  4D006MA12 ,  4D006MC54 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB23 ,  4D006PB70 ,  4D006PC02 ,  4D011AA14 ,  4D011AA16 ,  4D011AA17 ,  4D011AD03 ,  4D025AA04 ,  4D025AB17 ,  4D025AB33 ,  4D025BB07 ,  4D025DA01 ,  4D025DA04 ,  4D025DA05 ,  4D025DA06 ,  4D037AA03 ,  4D037AB01 ,  4D037BA18 ,  4D037BA23 ,  4D037CA03 ,  4D037CA04 ,  4D037CA11 ,  4D037CA15 ,  4D050AA05 ,  4D050AB07 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC09 ,  4D050BD06 ,  4D050CA03 ,  4D050CA08 ,  4D050CA09 ,  4D050CA10 ,  4D061DA02 ,  4D061DB18 ,  4D061DC18 ,  4D061DC19 ,  4D061EA09 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB13 ,  4D061EB37 ,  4D061GA20 ,  4D061GA21
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 超純水製造装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-150263   Applicant：オルガノ株式会社
  • 純水の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-131569   Applicant：栗田工業株式会社
  • 超純水製造装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-344054   Applicant：栗田工業株式会社
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