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J-GLOBAL ID:200903019544715893

純水製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 重野 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998223094
Publication number (International publication number):2000051845
Application date: Aug. 06, 1998
Publication date: Feb. 22, 2000
Summary:
【要約】【課題】 脱気装置、RO膜装置及びイオン交換脱塩装置を組み合わせて構成される純水製造装置により、原水中の揮発性有機物、シリカ、ホウ素等を効率的に除去し、低コストで高水質の純水を製造する。【解決手段】 脱気装置3、逆浸透膜装置4及びイオン交換脱塩装置5を組み合せて構成される純水製造装置の各装置3,4,5に35〜80°Cの原水を通水する純水製造方法。
Claim (excerpt):
脱ガス装置、逆浸透膜装置及びイオン交換脱塩装置を組み合せて構成される純水製造手段に原水を通水して純水を製造する方法において、各装置に通水される原水の温度を35〜80°Cとすることを特徴とする純水製造方法。
IPC (8):
C02F 1/20 ,  B01D 19/00 101 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504
FI (10):
C02F 1/20 A ,  B01D 19/00 101 ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/44 H ,  C02F 9/00 502 A ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 503 B ,  C02F 9/00 504 B
F-Term (41):
4D006GA03 ,  4D006KA01 ,  4D006KA03 ,  4D006KA72 ,  4D006KB11 ,  4D006KB12 ,  4D006KB17 ,  4D006KD17 ,  4D006KE15Q ,  4D006KE16R ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB23 ,  4D006PB70 ,  4D006PC02 ,  4D006PC31 ,  4D006PC42 ,  4D011AA16 ,  4D011AD03 ,  4D011AD06 ,  4D025AA04 ,  4D025AB17 ,  4D025AB33 ,  4D025AB34 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025BB04 ,  4D025CA08 ,  4D025DA01 ,  4D025DA03 ,  4D025DA05 ,  4D037AA03 ,  4D037AB11 ,  4D037AB14 ,  4D037BA23 ,  4D037BB06 ,  4D037BB07 ,  4D037BB09 ,  4D037CA01 ,  4D037CA03 ,  4D037CA15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 超純水製造装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-189025   Applicant:野村マイクロ・サイエンス株式会社
  • 純水製造装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-119525   Applicant:栗田工業株式会社
  • 特開昭60-261585
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