Pat
J-GLOBAL ID：200903010792795197

ポジ型感光性組成物

Inventor：
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦

, 
青合 利明

About 青合 利明


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001188670
Publication number (International publication number)：2002122994
Application date： Jun. 21, 2001
Publication date： Apr. 26, 2002
Summary：
【要約】【課題】 遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、疎密依存性が優れ、更に露光マージンも優れたポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂(C)カルボン酸オニウム塩を含有し、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂が単環または多環の脂環炭化水素構造を有する樹脂であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt)：
(A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂(C)カルボン酸オニウム塩を含有し、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂が単環または多環の脂環炭化水素構造を有する樹脂であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (10)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM