感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998229160
Publication number (International publication number)：1999125907
Application date： Aug. 13, 1998
Publication date： May. 11, 1999
Summary：

【要約】【課題】解像度およびパターン形状に優れるとともに、特に「ナノエッジラフネス」あるいは「膜面荒れ」を生じることがないポジ型およびネガ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】ポジ型感放射線性樹脂組成物は、(A)(イ)酸解離性基含有樹脂、または(ロ)アルカリ可溶性樹脂およびアルカリ溶解性制御剤、および(B)「放射線の照射により、沸点が150°C以上のカルボン酸を発生する化合物」と、「放射線の照射により、カルボン酸以外の酸を発生する化合物」との組み合せからなる感放射線性酸発生剤を含有する。ネガ型感放射線性樹脂組成物は、(C)アルカリ可溶性樹脂、(D)架橋剤および前記(B)成分を含有する。

Claim (excerpt)：

(A)(イ)酸解離性基で保護されたアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、または(ロ)アルカリ可溶性樹脂およびアルカリ溶解性制御剤、および(B)2種以上の化合物からなる感放射線性酸発生剤を含有し、前記(B)成分を構成する化合物の少なくとも1種が「放射線の照射により、常圧における沸点が150°C以上のカルボン酸を発生する化合物」からなり、かつ前記(B)成分を構成する化合物の少なくとも1種が「放射線の照射により、カルボン酸以外の酸を発生する化合物」からなることを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びそれを用いるパターン形成法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-025870 Applicant：日本化薬株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-162179 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型化学増幅型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-149286 Applicant：東京応化工業株式会社

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Cited by examiner (7)

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びそれを用いるパターン形成法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-025870 Applicant：日本化薬株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-162179 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型化学増幅型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-149286 Applicant：東京応化工業株式会社

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