Pat

J-GLOBAL ID：200903010812070968

シランカップリング剤

Inventor： 中川 勝
Applicant, Patent owner： 財団法人理工学振興会
Agent (2)： 関根 武 ,  渡部 温
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003345280
Publication number (International publication number)：2005112732
Application date： Oct. 03, 2003
Publication date： Apr. 28, 2005
Summary：

【課題】 安価な汎用紫外線光源から得られる低露光量の紫外線照射により、基材表面を疎水性から親水性に変性し得るシランカップリング剤を提供することを目的とする。特に、紫外線照射後に基材表面を親水性にする、形成されたスルフィン酸基の光分解反応を伴わない、290nm以上の波長の紫外線に対して活性を示すシランカップリング剤を提供すること。【解決手段】 本発本発明のシランカップリング剤は、下記一般式(I)で示される。【化1】【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で示されるシラン化合物からなるシランカップリング剤。

IPC (2)：

C07F7/12 ,  C07C317/14

FI (2)：

C07F7/12 G ,  C07C317/14

F-Term (13)：

4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB84 ,  4H006TA02 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ12 ,  4H049VQ54 ,  4H049VR23 ,  4H049VR31 ,  4H049VU22 ,  4H049VW02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 表面をパターンに従って化学的に変性する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-222440   Applicant：フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ
• 有機単分子膜の形成方法とそのパターニング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-094349   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 微細構造体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-202199   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 有機分子膜パターンの製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-202202   Applicant：セイコーエプソン株式会社