走査型電子顕微鏡及びそれを用いたパターン計測方法並びに走査型電子顕微鏡の機差補正装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：作田康夫 , 井上学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005096703
Publication number (International publication number)：2006153837
Application date： Mar. 30, 2005
Publication date： Jun. 15, 2006
Summary：

【課題】計測パターン形状ごとに,計測寸法差の評価,すなわち合わせ込みに必要なパラメータの算出と,該算出パラメータを用いた計測寸法差の合わせ込みを行う必要があった。【解決手段】走査型電子顕微鏡を用いてパターンの寸法を計測する方法において、表面にパターンが形成された試料に収束させた電子線を照射して走査し、収束させた電子線の照射により試料から発生する2次電子を検出して試料表面に形成されたパターンの画像を取得し、予め記憶手段に記憶しておいた装置間での画像プロファイルの特徴量を合わせこむためのフィルタパラメータ(関数)を読み出し、読み出したフィルタパラメータを用いて取得したパターンの画像から画像プロファイルを作成し、作成した画像プロファイルから前記パターンの寸法を計測するようにした。【選択図】図16

Claim (excerpt)：

走査型電子顕微鏡を用いてパターンの寸法を計測する方法であって、表面にパターンが形成された試料に収束させた電子線を照射して走査し、該収束させた電子線の照射により前記試料から発生する2次電子を検出して前記試料表面に形成されたパターンの画像を取得し、予め記憶手段に記憶しておいた画像の断面波形を修正するためのフィルタパラメータを読み出し、該読み出したフィルタパラメータを用いて前記取得したパターンの画像から画像の断面波形を作成し、該作成した画像の断面波形から前記パターンの寸法を計測することを特徴とする走査型電子顕微鏡を用いたパターン寸法の計測方法。

IPC (5)：

G01B 15/00 , G06T 1/00 , H01J 37/22 , H01J 37/28 , H01L 21/66

FI (6)：

G01B15/00 B , G06T1/00 305B , H01J37/22 502D , H01J37/22 502H , H01J37/28 B , H01L21/66 J

F-Term (39)：

2F067AA26 , 2F067AA54 , 2F067BB04 , 2F067CC17 , 2F067HH06 , 2F067HH13 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067LL16 , 2F067QQ02 , 2F067RR12 , 2F067RR30 , 2F067RR35 , 2F067RR44 , 2F067SS04 , 2F067SS18 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA39 , 4M106DB05 , 4M106DJ11 , 4M106DJ18 , 4M106DJ19 , 4M106DJ21 , 4M106DJ23 , 5B057AA03 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CE03 , 5B057CE06 , 5B057DA06 , 5B057DC03 , 5B057DC16 , 5B057DC33 , 5B057DC39 , 5C033UU05 , 5C033UU06 , 5C033UU08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

測長用電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-326819 Applicant：株式会社日立製作所
特開平3-295419
プロフィル測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-264157 Applicant：株式会社東芝

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