研磨用組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998247096
Publication number (International publication number)：2000073049
Application date： Sep. 01, 1998
Publication date： Mar. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】研磨速度が大きく、さらに貯蔵安定性および皮膚刺激性などの取り扱い性に優れ、かつ研磨機などに対する腐食性が抑制された研磨用組成物の提供。【解決手段】二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材、ならびに水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄キレート錯体を含んでなり、組成物全体のpHが6以上10以下であることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物

Claim (excerpt)：

二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材、ならびに水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄キレート錯体を含んでなり、組成物全体のpHが6以上10以下であることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物。

IPC (3)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , G11B 5/84

FI (6)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 C , C09K 3/14 550 E , C09K 3/14 550 M , C09K 3/14 550 Z , G11B 5/84 A

F-Term (6)：

5D112AA02 , 5D112BA06 , 5D112GA02 , 5D112GA09 , 5D112GA14 , 5D112GA30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

磁気ディスク基板研磨用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-136821 Applicant：昭和電工株式会社, 山口精研工業株式会社
研磨用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-008771 Applicant：株式会社フジミインコーポレーテッド
特開平4-363385

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Cited by examiner (5)

磁気ディスク基板研磨用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-136821 Applicant：昭和電工株式会社, 山口精研工業株式会社
研磨用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-008771 Applicant：株式会社フジミインコーポレーテッド
特開平4-363385

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