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J-GLOBAL ID：200903011017076482

研磨用組成物

Inventor： 大 橋 圭 吾 ,  児 玉 一 志 ,  横 道 典 孝
Applicant, Patent owner： 株式会社フジミインコーポレーテッド
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998247096
Publication number (International publication number)：2000073049
Application date： Sep. 01, 1998
Publication date： Mar. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 研磨速度が大きく、さらに貯蔵安定性および皮膚刺激性などの取り扱い性に優れ、かつ研磨機などに対する腐食性が抑制された研磨用組成物の提供。【解決手段】 二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材、ならびに水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄キレート錯体を含んでなり、組成物全体のpHが6以上10以下であることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物

Claim (excerpt)：

二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材、ならびに水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄キレート錯体を含んでなり、組成物全体のpHが6以上10以下であることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物。

IPC (3)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  G11B 5/84

FI (6)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 C ,  C09K 3/14 550 E ,  C09K 3/14 550 M ,  C09K 3/14 550 Z ,  G11B 5/84 A

F-Term (6)：

5D112AA02 ,  5D112BA06 ,  5D112GA02 ,  5D112GA09 ,  5D112GA14 ,  5D112GA30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 磁気ディスク基板研磨用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-136821   Applicant：昭和電工株式会社, 山口精研工業株式会社
• 研磨用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-008771   Applicant：株式会社フジミインコーポレーテッド
• 特開平4-363385
  
• 研磨剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-097217   Applicant：三菱化成株式会社
• 特開平2-278822