感放射線性組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：重野剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999245744
Publication number (International publication number)：2000171967
Application date： Aug. 31, 1999
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：

【要約】【課題】放射線を用いたハーフミクロンリソグラフィーに対応可能な高解像性かつ高感度な感放射線性組成物を提供する。【解決手段】塗膜形成性樹脂と、下記一般式(1)で表されるビススルホニルジアゾメタン化合物とを含有する感放射線性組成物。【化7】

Claim (excerpt)：

塗膜形成性樹脂と、下記一般式(1)で表されるビススルホニルジアゾメタン化合物とを含有することを特徴とする感放射線性組成物。【化1】

IPC (3)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-217249
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-141606 Applicant：日本ゼオン株式会社
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-167810 Applicant：株式会社東芝

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