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J-GLOBAL ID：200903011435855277

ポジ型化学増幅型レジスト組成物

Inventor：
佐藤 和史

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新田 和行

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山崎 晃義

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坂井 与日

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中山 寿昌

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Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

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Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995149286
Publication number (International publication number)：1997005990
Application date： Jun. 15, 1995
Publication date： Jan. 10, 1997
Summary：
【要約】【構成】 (A)放射線照射により酸を発生しうる化合物及び(B)酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分を基本組成とするポジ型化学増幅型レジストに対し、(C)ハレーション防止剤として分子量1000以下のフェノール性化合物とナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン酸とのエステルを(B)成分に基づき0.5〜20重量%の割合で配合したことを特徴とするポジ型化学増幅型レジスト組成物である。【効果】 高感度、高解像性のポジ型化学増幅型レジストであって、これを金属基板上に施した場合、ハレーション及び定在波の影響を防止し、優れたレジストパターン形状を与える。
Claim (excerpt)：
(A)放射線照射により酸を発生しうる化合物及び(B)酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分を基本組成とするポジ型化学増幅型レジストに対し、(C)ハレーション防止剤として分子量1000以下のフェノール性化合物とナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン酸とのエステルを(B)成分に基づき0.5〜20重量%の割合で配合したことを特徴とするポジ型化学増幅型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/004 506 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039
FI (3)：
G03F 7/004 506 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (29)
  • 特開平3-276157
  • 特開平3-276157
  • 特開平3-023454
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