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J-GLOBAL ID：200903011435855277

ポジ型化学増幅型レジスト組成物

Inventor： 佐藤 和史 ,  新田 和行 ,  山崎 晃義 ,  坂井 与日 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995149286
Publication number (International publication number)：1997005990
Application date： Jun. 15, 1995
Publication date： Jan. 10, 1997
Summary：

【要約】【構成】 (A)放射線照射により酸を発生しうる化合物及び(B)酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分を基本組成とするポジ型化学増幅型レジストに対し、(C)ハレーション防止剤として分子量1000以下のフェノール性化合物とナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン酸とのエステルを(B)成分に基づき0.5〜20重量%の割合で配合したことを特徴とするポジ型化学増幅型レジスト組成物である。【効果】 高感度、高解像性のポジ型化学増幅型レジストであって、これを金属基板上に施した場合、ハレーション及び定在波の影響を防止し、優れたレジストパターン形状を与える。

Claim (excerpt)：

(A)放射線照射により酸を発生しうる化合物及び(B)酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分を基本組成とするポジ型化学増幅型レジストに対し、(C)ハレーション防止剤として分子量1000以下のフェノール性化合物とナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン酸とのエステルを(B)成分に基づき0.5〜20重量%の割合で配合したことを特徴とするポジ型化学増幅型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 506 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039

FI (3)：

G03F 7/004 506 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (18)

• 特開平3-276157
  
• 特開平3-023454
  
• 特開平4-210960
  
• 特開平3-103854
  
• レジスト塗布組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-197814   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-253741   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-261875   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 特開平3-158856
  
• 特開平4-029242
  
• 特開平4-284454
  
• ポジ型フオトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-085856   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 特開平3-048249
  
• 特開平4-036751
  
• 特開平4-211254
  
• 特開平4-253058
  
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-286168   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-094443   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト膜形成用塗布液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-149285   Applicant：東京応化工業株式会社