分光分析装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：北村修一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000369931
Publication number (International publication number)：2002168772
Application date： Dec. 05, 2000
Publication date： Jun. 14, 2002
Summary：

【要約】【課題】受光手段への入射量を設定適正量に調整しながら、S/N(信号対雑音)比が小さくなるのを防止して、被計測物の内部品質を精度よく計測することが可能となる分光分析装置を提供する点にある。【解決手段】計測対象箇所に位置する被計測物Mに光を照射する投光手段1と、被計測物Mからの透過光または反射光を分光し、その分光された光を受光する受光手段8と、各部の動作を制御する制御手段3とが設けられ、制御手段3が、受光手段8にて受光した光により、被計測物の内部品質を解析するように構成されている分光分析装置であって、被計測物Mと受光手段8との間に、透過光または反射光を減光させかつその減光量を調整自在な減光手段7が設けられ、制御手段3が、透過光または反射光の受光手段への入射量が設定適正量になるべく、減光手段7による減光量を調整するように構成されている分光分析装置。

Claim (excerpt)：

計測対象箇所に位置する被計測物に光を照射する投光手段と、前記被計測物からの透過光または反射光を分光し、その分光された光を受光する受光手段と、各部の動作を制御する制御手段とが設けられ、前記制御手段が、前記受光手段にて受光した光により、前記被計測物の内部品質を解析するように構成されている分光分析装置であって、前記被計測物と前記受光手段との間に、前記透過光または前記反射光を減光させかつその減光量を調整自在な減光手段が設けられ、前記制御手段が、前記透過光または前記反射光の前記受光手段への入射量が設定適正量になるべく、前記減光手段による減光量を調整するように構成されている分光分析装置。

IPC (3)：

G01N 21/27 , G01N 21/35 , G01N 21/85

FI (3)：

G01N 21/27 F , G01N 21/35 Z , G01N 21/85 A

F-Term (27)：

2G051AA05 , 2G051BA06 , 2G051BA20 , 2G051CA03 , 2G051CB01 , 2G051CB02 , 2G051CC07 , 2G051CC15 , 2G051DA06 , 2G051EA14 , 2G051EA24 , 2G051EA25 , 2G059AA01 , 2G059BB11 , 2G059DD12 , 2G059EE01 , 2G059EE12 , 2G059GG10 , 2G059HH01 , 2G059JJ02 , 2G059JJ05 , 2G059JJ25 , 2G059KK04 , 2G059MM01 , 2G059MM10 , 2G059MM14 , 2G059NN08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

光測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-120671 Applicant：株式会社クボタ
対象物内部品質測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-125547 Applicant：三井金属鉱業株式会社
測定機の光源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-156306 Applicant：財団法人雑賀技術研究所

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