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J-GLOBAL ID:200903012262175832

正孔注入輸送層を有するデバイス、及びその製造方法、並びに正孔注入輸送層形成用インク

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 岸本 達人 ,  山下 昭彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009109764
Publication number (International publication number):2009290205
Application date: Apr. 28, 2009
Publication date: Dec. 10, 2009
Summary:
【課題】製造プロセスが容易でありながら、長寿命を達成可能なデバイスを提供する。【解決手段】基板上に対向する2つ以上の電極と、そのうちの2つの電極間に配置された正孔注入輸送層を有するデバイスであって、前記正孔注入輸送層が、モリブデン錯体の反応生成物又はタングステン錯体の反応生成物を含有することを特徴とする、デバイスである。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基板上に対向する2つ以上の電極と、そのうちの2つの電極間に配置された正孔注入輸送層を有するデバイスであって、 前記正孔注入輸送層が、モリブデン錯体の反応生成物又はタングステン錯体の反応生成物を含有することを特徴とする、デバイス。
IPC (2):
H01L 51/50 ,  H05B 33/10
FI (3):
H05B33/22 D ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
F-Term (15):
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC21 ,  3K107CC25 ,  3K107CC45 ,  3K107DD72 ,  3K107DD73 ,  3K107DD78 ,  3K107DD79 ,  3K107DD80 ,  3K107DD84 ,  3K107DD87 ,  3K107GG06 ,  3K107GG26 ,  3K107GG28
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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