気化器及びこれを用いた半導体製造システム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：伊東忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000271920
Publication number (International publication number)：2001148347
Application date： Sep. 07, 2000
Publication date： May. 29, 2001
Summary：

【要約】【課題】液体原料を効率的に気化させることができる気化器を提供する。【解決手段】圧送されてくる液体原料を減圧雰囲気中にて気化させる気化器26において、圧送されてくる液体原料30を一時的に貯留する液溜め室82と、減圧雰囲気になされた気化室64とを細孔66により連通して液体原料を気化室へ流通させる。細孔66の液溜め室側の液入口を弁体70により開閉する。弁体70の弁開度はアクチュエータ手段72により制御する。

Claim (excerpt)：

圧送されてくる液体原料を減圧雰囲気中にて気化させる気化器であって前記圧送されてくる液体原料を一時的に貯留する液溜め室と、減圧雰囲気になされた気化室と、前記液溜め室と前記気化室とを連通して前記液体原料を前記気化室へ流通させる細孔と、前記細孔の前記液溜め室側の液入口を開閉する弁体と、前記弁体の弁開度を制御するアクチュエータ手段とを備えたことを特徴とする気化器。

IPC (2)：

H01L 21/205 , C23C 16/448

FI (2)：

H01L 21/205 , C23C 16/448

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

気化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-233734 Applicant：富士通株式会社
気化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-215019 Applicant：株式会社東芝, シーケーディ株式会社
処理ガスの供給方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-137536 Applicant：東京エレクトロン株式会社

Show all

Cited by examiner (6)

気化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-233734 Applicant：富士通株式会社
気化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-215019 Applicant：株式会社東芝, シーケーディ株式会社
処理ガスの供給方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-137536 Applicant：東京エレクトロン株式会社

Show all

Return to Previous Page