Pat
J-GLOBAL ID:200903013023678675

粒径分布測定装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤本 英夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998294333
Publication number (International publication number):2000121540
Application date: Oct. 16, 1998
Publication date: Apr. 28, 2000
Summary:
【要約】【課題】 微小粒径から大きな粒径に至るまで広範囲の大きさの粒子の粒径分布を確実に測定することができる小型でコンパクトな粒径分布測定装置を提供すること。【解決手段】 レーザ光源3からのレーザ光をセル1内の分散した粒子群に照射したときに生ずる回折/散乱光のうち散乱角の小さいレーザ光の光強度を各散乱角ごとにリングディテクタ6によって検出し、前記回折/散乱光のうち散乱角が大きいレーザ光の強度を各散乱角ごとに複数のフォトセンサ9〜14によって検出し、前記リングディテクタ9およびフォトセンサ9〜14からの散乱光強度信号に基づいて前記粒子群における粒径分布を測定するようにした装置において、前記レーザ光源3とセル1との間に集光レンズ4を設け、この集光レンズ4で収斂したレーザ光5を粒子群に照射するようにした。
Claim (excerpt):
レーザ光源からのレーザ光をセル内の分散した粒子群に照射したときに生ずる回折/散乱光のうち散乱角の小さいレーザ光の光強度を各散乱角ごとにリングディテクタによって検出し、前記回折/散乱光のうち散乱角が大きいレーザ光の強度を各散乱角ごとに複数のフォトセンサによって検出し、前記リングディテクタおよびフォトセンサからの散乱光強度信号に基づいて前記粒子群における粒径分布を測定するようにした装置において、前記レーザ光源とセルとの間に集光レンズを設け、この集光レンズで収斂したレーザ光を粒子群に照射するようにしたことを特徴とする粒径分布測定装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

Return to Previous Page