Pat
J-GLOBAL ID:200903013359692455
半導体装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
西教 圭一郎
, 杉山 毅至
, 廣瀬 峰太郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004347095
Publication number (International publication number):2006156816
Application date: Nov. 30, 2004
Publication date: Jun. 15, 2006
Summary:
【課題】 半導体のヘテロ構造を含むにも拘らず、ゲート電圧が印加されていない状態では電流が流れないノーマルオフタイプのトランジスタなどの半導体装置を提供する。【解決手段】 半導体装置1のチャネル層13に接して設けられるバリア層14を、チャネル層13を構成する半導体材料のa軸格子定数a1以上のa軸格子定数a2を有し、かつチャネル層13を構成する半導体材料のバンドギャップEg1よりも大きいバンドギャップEg2を有する半導体材料で形成し、バリア層14に接するようにピエゾ効果材層15を設け、ピエゾ効果材層15のバリア層14に接する側と反対側にゲート電極18を設ける。これによって、ゲート電圧がゼロの場合にはドレイン電流が流れず、ゲート電極18に電圧を印加すると、ピエゾ効果材層15が変形してバリア層14に応力が印加され、ドレイン電流が流れる状態となるノーマルオフタイプのトランジスタ1が得られる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
第1半導体層と、第1半導体層に接して設けられる第2半導体層とを備える半導体装置であって、
第1半導体層と第2半導体層とは、下記式(1)および(2)の関係を満足し、
a1≦a2 ...(1)
Eg1
IPC (6):
H01L 29/812
, H01L 29/778
, H01L 21/338
, H01L 29/78
, H01L 29/786
, H01L 21/336
FI (7):
H01L29/80 H
, H01L29/78 301B
, H01L29/78 301G
, H01L29/78 622
, H01L29/78 618E
, H01L29/78 617S
, H01L29/78 617T
F-Term (58):
5F102GB01
, 5F102GC01
, 5F102GD01
, 5F102GD10
, 5F102GJ02
, 5F102GJ04
, 5F102GJ10
, 5F102GK04
, 5F102GK09
, 5F102GL04
, 5F102GL09
, 5F102GM04
, 5F102GM07
, 5F102GM08
, 5F102GM10
, 5F102GQ01
, 5F102GR09
, 5F102GT01
, 5F102HC01
, 5F110AA01
, 5F110AA09
, 5F110AA30
, 5F110CC02
, 5F110DD04
, 5F110DD12
, 5F110EE02
, 5F110EE44
, 5F110FF01
, 5F110FF05
, 5F110FF27
, 5F110FF28
, 5F110GG04
, 5F110GG12
, 5F110GG19
, 5F110GG24
, 5F110GG42
, 5F110HK02
, 5F110HK21
, 5F110HK22
, 5F110HK33
, 5F140AA00
, 5F140AA02
, 5F140AA39
, 5F140AC28
, 5F140BA06
, 5F140BA09
, 5F140BB18
, 5F140BD04
, 5F140BD13
, 5F140BE05
, 5F140BE09
, 5F140BF01
, 5F140BF05
, 5F140BG30
, 5F140BJ07
, 5F140BJ11
, 5F140BJ15
, 5F140BJ17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
-
米国特許第5,192,987号明細書(第4欄,第5図)
-
特開平1-119065
-
電界効果トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-036424
Applicant:ローム株式会社
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-141349
Applicant:株式会社日立製作所
-
窒素含有半導体物質のデバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-096411
Applicant:シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
-
ヘテロ接合電界効果トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-022516
Applicant:日本電気株式会社
-
ヘテロ接合電界効果トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-044515
Applicant:沖電気工業株式会社
-
電気双極子を有する分子材料からなるトランジスタ及びセンサ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2004-517827
Applicant:ヒューレット-パッカードデベロップメントカンパニーエル.ピー.
-
絶縁体構造を強化した電界効果トランジスタ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2006-542809
Applicant:インターナショナル・レクティファイヤ・コーポレーション
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Cited by examiner (8)
-
特開平1-119065
-
電界効果トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-036424
Applicant:ローム株式会社
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-141349
Applicant:株式会社日立製作所
-
窒素含有半導体物質のデバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-096411
Applicant:シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
-
ヘテロ接合電界効果トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-022516
Applicant:日本電気株式会社
-
ヘテロ接合電界効果トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-044515
Applicant:沖電気工業株式会社
-
絶縁体構造を強化した電界効果トランジスタ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2006-542809
Applicant:インターナショナル・レクティファイヤ・コーポレーション
-
電気双極子を有する分子材料からなるトランジスタ及びセンサ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2004-517827
Applicant:ヒューレット-パッカードデベロップメントカンパニーエル.ピー.
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